Studying an Influence of a Nucleation Phase on Nanocrystalline Diamond Film Properties

KARÁSKOVÁ, Monika, Lenka ZAJÍČKOVÁ, Ondřej JAŠEK, Vilma BURŠÍKOVÁ, Daniel FRANTA, Jiřina MATĚJKOVÁ a Petr KLAPETEK. Studying an Influence of a Nucleation Phase on Nanocrystalline Diamond Film Properties. In Abstract Booklet of Inernational Conference NANO 07. 1. vyd. Brno: VUT Brno, 2007, s. 59-59. ISBN 978-80-214-3460-8.

Základní údaje

Originální název

Studying an Influence of a Nucleation Phase on Nanocrystalline Diamond Film Properties

Název česky

Studium vlivu nukleační fáze na vlastnosti nanokrystalických diamantových vrstev

Autoři

KARÁSKOVÁ, Monika, Lenka ZAJÍČKOVÁ, Ondřej JAŠEK, Vilma BURŠÍKOVÁ, Daniel FRANTA, Jiřina MATĚJKOVÁ a Petr KLAPETEK

Vydání

1. vyd. Brno, Abstract Booklet of Inernational Conference NANO 07, od s. 59-59, 1 s. 2007

Nakladatel

VUT Brno

---

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Stať ve sborníku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Česká republika

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

ISBN

978-80-214-3460-8

Klíčová slova anglicky

nanocrystalline diamond; plasma enhanced CVD; bias enhanced nucleation; hardness

Štítky

bias enhanced nucleation, hardness, nanocrystalline diamond, plasma enhanced CVD

Příznaky

Mezinárodní význam

---

Anotace

V originále

Nanocrystalline diamond (NCD) films were deposited by microwave (2.45 GHz) PECVD in the bell jar plasma reaktor of ASTeX type combined with the rf capacitive discharge providing a negative dc self-bias -125 V at the substrate holder. The applied mw power, pressure and substrate temperature were 850 W, 7.5 kPa and 1090 K, respectively. The continuous re-nucleation rate was performed by ions accelerated in dc electric field – bias enhanced nucleation (BEN) method. The nucleation phase turned to be very important for good mechanical properties of the films. The films with very good mechanical properties consisting of nanocrystalline diamond were prepared without substrate preheating under the deposition mixture of 9.4% of CH4 in H2. The films exhibited very low roughness (rms of heights 13 nm) and high hardness and elastic modulus, 70 and 375 GPa, respectively. The nucleation and film growth were studied by SEM, AFM and modelling of optical response of the substrate-interfacial layers-diamond film systems in UV/VIS/NIR range.

Česky

Nanokrystalické diamantové vrstvy byly deponovány v mikrovlnném plazmovém reaktoru zvonovitého tvaru typu ASTeX (2,45 GHz). Pro nukleaci diamantové vrstvy byla použita metoda využívající aktivaci substrátu pomocí energetických iontů urychlených stejnosměrným předpětím (metoda BEN). Na držák substrátu proto bylo přivedeno vysokofrekvenční napětí a díky vlastnostem kapacitně vázaného vysokofrekvenčního výboje se zde zároveň vytvořilo stejnosměrné samopředpětí. Ukázalo se, že nukleašní fáze je velice důležitá část depozičního procesu pro vznik vrstvy s dobrými mechanickými vlastnostmi. Vrstvy byly deponovány při mikrovlnném výkonu 850 W, tlaku 7,5 kPa a teplotě substrátu 1090 K. Nanokrystalické diamantové vrstvy s dobrými mechanickými vlastnostmi (tvrdost 70 GPa a elastický modul 375 GPa) byly připraveny bez předehřátí substrátu. Koncentrace metanu v plynné směsi metanu a vodíku byla 9,4% a rms drsnost vrstev byla 13 nm. Nukleační fáze a fáze růstu vrstvy byly studovány pomocí rastrovacího elektronového mikroskopu, mikroskopu atomárních sil a jednotlivé mezivrstvy diamantových vrstev byly charakterizovány pomocí optických měření v ultrafialové, viditelné a blízké infračervené oblasti vlnových délek.