D 2007

Structure and properties of DLC/SiOx films deposited in CW and pulsed plasma

GRANIER, A., T. BEGOU, C. DUQUENNE, M.A. DJOUADI, X. FENG et. al.

Základní údaje

Originální název

Structure and properties of DLC/SiOx films deposited in CW and pulsed plasma

Název česky

Struktura a vlastnosti DLC/SiOx vrstev připravených v CW a pulzním plazmatu

Autoři

GRANIER, A., T. BEGOU, C. DUQUENNE, M.A. DJOUADI, X. FENG, Vilma BURŠÍKOVÁ a Lenka ZAJÍČKOVÁ

Vydání

Kyoto, Japan, 18th International Symposium on Plasma Chemistry, Abstracts and Full-Papers CD, od s. 1-4, 4 s. 2007

Nakladatel

Kyoto University

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Stať ve sborníku

Obor

10302 Condensed matter physics

Stát vydavatele

Japonsko

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

ISBN

978-9903773-2-8

Klíčová slova anglicky

DLC;PECVD;HMDSO;mechanical properties

Štítky

Příznaky

Mezinárodní význam
Změněno: 16. 7. 2008 14:06, Mgr. Petr Bureš

Anotace

ORIG CZ

V originále

Structure and properties of DLC/SiOx films deposited in CW and pulsed plasma

Česky

Struktura a vlastnosti DLC/SiOx vrstev připravených v CW a pulzním plazmatu

Návaznosti

GA106/05/0274, projekt VaV
Název: Víceúrovňové studium vztahů mezi mechanickými a mikrostrukturními charakteristikami materiálů
Investor: Grantová agentura ČR, Víceúrovňové studium vztahů mezi mechanickými a mikrostrukturními charakteristikami materiálů
KAN311610701, projekt VaV
Název: Nanometrologie využívající metod rastrovací sondové mikroskopie
Investor: Akademie věd ČR, Nanometrologie využívající metod rastrovací sondové mikroskopie
MSM0021622411, záměr
Název: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek