D 2007

Generation of XeI UV Excimer Radiation by diffuse coplanar surface discharge

BRABLEC, Antonín, N. N. GUIVAN, Pavel SŤAHEL, Pavel SLAVÍČEK, L. L. SHIMON et. al.

Základní údaje

Originální název

Generation of XeI UV Excimer Radiation by diffuse coplanar surface discharge

Název česky

Generace XeI UV excimerního záření pomocí difuzního koplanárního povrchového výboje

Autoři

BRABLEC, Antonín (203 Česká republika, garant), N. N. GUIVAN (804 Ukrajina), Pavel SŤAHEL (203 Česká republika), Pavel SLAVÍČEK (203 Česká republika), L. L. SHIMON (804 Ukrajina) a Jan JANČA (203 Česká republika)

Vydání

1. vyd. Brno, XIIVth symposium on Physics of Switching Arc, Vol. II: Invited Papers, s. 37-40, 2007

Nakladatel

VUT Brno

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Stať ve sborníku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Česká republika

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Kód RIV

RIV/00216224:14310/07:00023867

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

ISBN

978-80-214-3359-5

UT WoS

000268099400009

Klíčová slova anglicky

excimer radiation; dielectric barrier discharge

Příznaky

Mezinárodní význam, Recenzováno
Změněno: 28. 3. 2010 21:58, doc. RNDr. Antonín Brablec, CSc.

Anotace

V originále

Generation of XeI UV Excimer Radiation by diffuse coplanar surface discharge and estimation of optimal parameters of the device as well as working paressures, ratio of individual gases in the mixture and others.

Česky

Generace excimerního UV záření molekulami XeI pomocí diffusního koplanárního povrchového výboje a určení optimálních parametrů zařízení, jakož i pracovních tlaků, poměru jednotlivých plynů ve směsi a další.

Návaznosti

MSM 143100003, záměr
Název: Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
OC 527.20, projekt VaV
Název: Plazmochemické depozice a plazmochemické opracování povrchu pevných substrátů
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Plazmochemické depozice a plazmochemické opracování povrchu pevných substrátů