2008
Influence of substrate material on plasma indeposition/sputtering reactor: experiment and computer simulation
BRZOBOHATÝ, Oto, Vilma BURŠÍKOVÁ, David NEČAS, Miroslav VALTR, David TRUNEC et. al.Základní údaje
Originální název
Influence of substrate material on plasma indeposition/sputtering reactor: experiment and computer simulation
Název česky
Vliv vzorku na plazma v depozičním/odprašovacím reaktoru: experiment a počítačová simulace
Autoři
BRZOBOHATÝ, Oto (203 Česká republika, garant), Vilma BURŠÍKOVÁ (203 Česká republika), David NEČAS (203 Česká republika), Miroslav VALTR (203 Česká republika) a David TRUNEC (203 Česká republika)
Vydání
Journal of Physics D: Applied Physics, Bristol, England, IOP Publishing Ltd. 2008, 0022-3727
Další údaje
Jazyk
angličtina
Typ výsledku
Článek v odborném periodiku
Obor
10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele
Česká republika
Utajení
není předmětem státního či obchodního tajemství
Impakt faktor
Impact factor: 2.104
Kód RIV
RIV/00216224:14310/08:00024731
Organizační jednotka
Přírodovědecká fakulta
UT WoS
000253177300023
Klíčová slova anglicky
r.f. plasma; computer simulation; secondary electron emision; plasma deposition; plasma sputtering
Štítky
Příznaky
Mezinárodní význam, Recenzováno
Změněno: 1. 7. 2009 09:08, doc. RNDr. Vilma Buršíková, Ph.D.
V originále
The aim of the present work was to investigate the influence of the substrate material on the plasma enhanced chemical vapor deposition and the plasma sputtering of thin films in low pressure parallel-plate r.f. discharges. It was observed that the deposition or sputtering rates differed above different materials, e.g., above a substrate and substrate electrode. Moreover, the substrates placed on the bottom r.f. electrode seemed to be mirrored in the thickness of a thin film deposited or sputtered on the upper grounded electrode. The influence of the substrate material on the plasma parameters was studied via Particle In Cell/Monte Carlo computer simulation. According to our finding the mirroring of the substrate was caused by different secondary electron emission yields of the substrate material and material of the substrate electrode.
Česky
Cílem této práce bylo zkoumání vlivu materiálu substrátu na vysokofrekvenční plazma v planparalelním reaktoru určeného pro depozici a odprašovaní tenkých vrstev za nízkých tlaků. Experimentálně bylo pozorováno, že depoziční a odprašovací rychlost je jiná nad substrátem a nad elektrodou. Navíc substrát umístěný nad buzenou elektrodou se zrcadlí v tloušťce deponované popř. odprašované tenké vrstvy přítomné na protější zemněné elektrodě. Proto byl pomocí počítačových modelu, založeného na metodě Particle In Cell/Monte Carlo, studován vliv materiálu substrátu na parametry plazmatu. Ukázali jsme, že toto zrcadlení je způsobeno rozdílem koeficientu sekundární emise substrátu a elektrody. Tento rozdíl totiž ovlivní lokálně hustotu plazmatu, a tedy i depoziční a odprašovací rychlost.
Návaznosti
| GA202/06/0776, projekt VaV |
| ||
| GA202/07/1669, projekt VaV |
| ||
| MSM0021622411, záměr |
|