2008
Measurement of Fundamental and Higher Harmonic Frequencies as Tool to Control RF Sputtering Deposition Process
DVOŘÁK, Pavel a Petr VAŠINAZákladní údaje
Originální název
Measurement of Fundamental and Higher Harmonic Frequencies as Tool to Control RF Sputtering Deposition Process
Název česky
Měření základní a vyšších harmonických frekvencí za účelem kontroly vf. reaktivního naprašování
Autoři
DVOŘÁK, Pavel (203 Česká republika, garant) a Petr VAŠINA (203 Česká republika)
Vydání
Praha, Programme and Abstract Book of the 23rd Symposium on Plasma Physics and Technology, od s. 91-92, 1 s. 2008
Nakladatel
CVUT v Praze
Další údaje
Jazyk
angličtina
Typ výsledku
Stať ve sborníku
Obor
10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele
Česká republika
Utajení
není předmětem státního či obchodního tajemství
Kód RIV
RIV/00216224:14310/08:00024835
Organizační jednotka
Přírodovědecká fakulta
ISBN
978-80-01-04030-0
Klíčová slova anglicky
higher harmonics; plasma; discharge; reactive sputtering; magnetron
Štítky
Změněno: 7. 8. 2008 09:53, prof. Mgr. Petr Vašina, Ph.D.
V originále
A new method to control whether a radio-freguency (RF) reactive sputtering deposition processes runs in a pre-adjusted experimental conditions was proposed. The frequency spectrum of the cathode voltage and of the voltage on an uncompensated probe immersed in the plasma was measured and it was proved, that some of the harmonics are extremely sensitive markers of the transition between the metallic and the compound mode of the RF sputtering.
Česky
Byla navržena nová metoda kontroly vysokofrekvenčního reaktivního magnetronového naprašování založená na měření frekvenčního spektra katodového napětí nebo napětí měřeného na nekompenzované sondě vsunuté do plazmatu. Amplitudy některých harmonických frekvencí byly velice citlivé na sledovaný přeskok mezi kovovým a otráveným režimem magnetronového naprašování.
Návaznosti
| GP202/08/P038, projekt VaV |
| ||
| MSM0021622411, záměr |
|