VAŠINA, Petr, Tereza HYTKOVÁ a Marek ELIÁŠ. Role of Neutral Gas Temperature on Hysteresis Behaviour of Reactive Sputtering Deposition Process. In Programme and Abstract Book of 23rd Symposium on Plasma Physics and Technology, Prague, Czech Republic, 16.-19.June 2008. Praha: České vysoké učení technické, 2008, s. 172-173. ISBN 978-80-01-04030-0.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Role of Neutral Gas Temperature on Hysteresis Behaviour of Reactive Sputtering Deposition Process
Název česky Vliv teploty neutralniho plynu na hysterezni chovani reaktivniho magnetronoveho naprasovani
Autoři VAŠINA, Petr (203 Česká republika, garant), Tereza HYTKOVÁ (203 Česká republika) a Marek ELIÁŠ (203 Česká republika).
Vydání Praha, Programme and Abstract Book of 23rd Symposium on Plasma Physics and Technology, Prague, Czech Republic, 16.-19.June 2008, od s. 172-173, 2 s. 2008.
Nakladatel České vysoké učení technické
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Stať ve sborníku
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Česká republika
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Kód RIV RIV/00216224:14310/08:00024850
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
ISBN 978-80-01-04030-0
Klíčová slova anglicky hysteresis; reactive sputtering
Štítky hysteresis, reactive sputtering
Příznaky Mezinárodní význam, Recenzováno
Změnil Změnil: prof. Mgr. Petr Vašina, Ph.D., učo 21782. Změněno: 7. 8. 2008 10:03.
Anotace
Theoretical study of role of neutral gas temperature on hysteresis behaviour of reactive sputtering deposition process
Anotace česky
Teoretická studie vlivu teploty neutrálního plynu na chování reaktivního magnetronového naprašování
Návaznosti
GP202/08/P038, projekt VaVNázev: Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev
Investor: Grantová agentura ČR, Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev
MSM0021622411, záměrNázev: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
VytisknoutZobrazeno: 30. 7. 2024 19:27