VAŠINA, Petr, Tereza HYTKOVÁ a Marek ELIÁŠ. Modeling of Radial Variation of Target Poisoning During Reactive Sputtering Deposition Process. In 19th Europhysics Conference on the Atomic and Molecular Physics of Ionized Gases - Book of Abstracts. Granada: European Physical Society, 2008, s. 165-166. ISBN 2-914771-04-5.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Modeling of Radial Variation of Target Poisoning During Reactive Sputtering Deposition Process
Název česky Modelování postupného otravování terče v průběhu reaktivního magnetronového naprašování
Autoři VAŠINA, Petr (203 Česká republika, garant), Tereza HYTKOVÁ (203 Česká republika) a Marek ELIÁŠ (203 Česká republika).
Vydání Granada, 19th Europhysics Conference on the Atomic and Molecular Physics of Ionized Gases - Book of Abstracts, od s. 165-166, 2 s. 2008.
Nakladatel European Physical Society
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Stať ve sborníku
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Španělsko
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Kód RIV RIV/00216224:14310/08:00024856
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
ISBN 2-914771-04-5
Klíčová slova anglicky reactive magnetron sputering; target
Štítky reactive magnetron sputering, target
Příznaky Mezinárodní význam, Recenzováno
Změnil Změnil: prof. Mgr. Petr Vašina, Ph.D., učo 21782. Změněno: 27. 3. 2010 09:16.
Anotace
Modeling of Radial Variation of Target Poisoning During Reactive Sputtering Deposition Process, proceeding, interdisciplinary study of plasma physics
Anotace česky
Modelování postupného otravování terče v průběhu reaktivního magnetronového naprašování, sborník, mezioborova studie fyzika plazmatu
Návaznosti
GP202/08/P038, projekt VaVNázev: Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev
Investor: Grantová agentura ČR, Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev
MSM0021622411, záměrNázev: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
VytisknoutZobrazeno: 25. 8. 2024 11:10