VALTR, Miroslav, Petr KLAPETEK, Vilma BURŠÍKOVÁ, Ivan OHLÍDAL a Daniel FRANTA. Surface morphology of amorphous hydrocarbon thin films deposited in pulsed radiofrequency discharge. Chem. listy. Praha: Česká společnost chemická, 2008, roč. 102, č. 16, s. 1529-1532. ISSN 0009-2770.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Surface morphology of amorphous hydrocarbon thin films deposited in pulsed radiofrequency discharge
Název česky Morfologie povrchu amorfních uhlíkových vrstev s příměsí vodíku deponované v pulzním radiofrekvenčním výboji
Autoři VALTR, Miroslav (203 Česká republika, garant), Petr KLAPETEK (203 Česká republika), Vilma BURŠÍKOVÁ (203 Česká republika), Ivan OHLÍDAL (203 Česká republika) a Daniel FRANTA (203 Česká republika).
Vydání Chem. listy, Praha, Česká společnost chemická, 2008, 0009-2770.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Článek v odborném periodiku
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Česká republika
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
WWW URL
Impakt faktor Impact factor: 0.593
Kód RIV RIV/00216224:14310/08:00024346
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
UT WoS 000208452600051
Klíčová slova anglicky plasma enhanced chemical vapor deposition;pulsed discharge;atomic force microscopy
Štítky atomic force microscopy, pulsed discharge
Příznaky Mezinárodní význam, Recenzováno
Změnil Změnil: Mgr. Miroslav Valtr, Ph.D., učo 13715. Změněno: 8. 12. 2008 13:51.
Anotace
We studied in this work surface morphology of thin amorphous hydrocarbon films by means of atomic force microscope. The AFM data were collected in two regions on the sample. We observed a significant difference in roughness parameters between these regions with increasing total deposition time. RMS values of the heights near the edge of the sample did not exhibit any significant change with the total deposition time and in the mean are equal to approximately 7 nm. However, RMS values of the heights in the center of the sample increased linearly with the total deposition time and reached values up to 125.6 nm. The values of autocorrelation length were independent on total deposition time, but there was a difference in absolute values. The mean value of this parameter near the edge of the sample was 145 nm, while in the center of the sample the respective value was 359 nm. The suggested reason for this surface non-uniformity is the reactor design.
Návaznosti
KAN311610701, projekt VaVNázev: Nanometrologie využívající metod rastrovací sondové mikroskopie
Investor: Akademie věd ČR, Nanometrologie využívající metod rastrovací sondové mikroskopie
MSM0021622411, záměrNázev: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
VytisknoutZobrazeno: 10. 10. 2024 21:41