2008
DEPOSITION OF THIN FILMS IN ATMOSPHERIC PRESSURE GLOW DISCHARGE IN N2 + HMDSO + O2 ATMOSPHERE
STUDNIČKA, Filip, David TRUNEC, Pavel SŤAHEL, Vilma BURŠÍKOVÁ, Lukáš KELAR et. al.Základní údaje
Originální název
DEPOSITION OF THIN FILMS IN ATMOSPHERIC PRESSURE GLOW DISCHARGE IN N2 + HMDSO + O2 ATMOSPHERE
Název česky
Depozice tenkých vrstev v doutnavém výboji za atmosférického tlaku ve směsi N2 + HMDS + O2
Autoři
STUDNIČKA, Filip (203 Česká republika), David TRUNEC (203 Česká republika, garant), Pavel SŤAHEL (203 Česká republika), Vilma BURŠÍKOVÁ (203 Česká republika) a Lukáš KELAR (203 Česká republika)
Vydání
Chemické Listy, II Central European Symposium on Plasma Chemistry 2008, 2008, 1803-2389
Další údaje
Jazyk
angličtina
Typ výsledku
Článek v odborném periodiku
Obor
10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele
Česká republika
Utajení
není předmětem státního či obchodního tajemství
Kód RIV
RIV/00216224:14310/08:00025101
Organizační jednotka
Přírodovědecká fakulta
UT WoS
000208452600047
Klíčová slova anglicky
plasma deposition
Štítky
Změněno: 19. 12. 2008 09:06, doc. Mgr. Pavel Sťahel, Ph.D.
V originále
THIN FILMS WERE DEPOSITED IN ATMOSPHERIC PRESSURE GLOW DISCHARGE IN N2 + HMDSO + O2 ATMOSPHERE. THE HARDNESS OF THESE FILMS WAS INCREASED IN COMPARISON WITH FILMS DEPOSITED IN N2 + HMDSO ATMOSPHERE.
Česky
TENKÉ VRSTVY BYLY DEPONOVÁNY VE SMĚSI N2 + HMDSO + O2. TVRDOST TĚCHTO VRSTEV VZROSTLA OPROTI VRSTVÁM DEPONOVANÝM VE SMĚSI N2 + HMDSO.
Návaznosti
| GA202/06/1473, projekt VaV |
|