STUDNIČKA, Filip, David TRUNEC, Pavel SŤAHEL, Vilma BURŠÍKOVÁ a Lukáš KELAR. DEPOSITION OF THIN FILMS IN ATMOSPHERIC PRESSURE HOMOGENOUS DISCHARGE IN N2 + HMDSO + O2 ATMOSPHEREIN N2 + HMDSO + O2 ATMOSPHERE. Chemické Listy, II Central European Symposium on Plasma Chemistry 2008. 2008, roč. 1, č. 16, s. 1519-1523. ISSN 1803-2389.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název DEPOSITION OF THIN FILMS IN ATMOSPHERIC PRESSURE HOMOGENOUS DISCHARGE IN N2 + HMDSO + O2 ATMOSPHEREIN N2 + HMDSO + O2 ATMOSPHERE
Název česky DEPOSITION OF THIN FILMS IN ATMOSPHERIC PRESSURE HOMOGENOUS DISCHARGE IN N2 + HMDSO + O2 ATMOSPHERE
Autoři STUDNIČKA, Filip (203 Česká republika), David TRUNEC (203 Česká republika, garant), Pavel SŤAHEL (203 Česká republika), Vilma BURŠÍKOVÁ (203 Česká republika) a Lukáš KELAR (203 Česká republika).
Vydání Chemické Listy, II Central European Symposium on Plasma Chemistry 2008, 2008, 1803-2389.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Článek v odborném periodiku
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Česká republika
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Kód RIV RIV/00216224:14310/08:00025102
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
UT WoS 000208452600049
Klíčová slova anglicky plasma deposition
Štítky plasma deposition
Příznaky Mezinárodní význam, Recenzováno
Změnil Změnila: doc. RNDr. Vilma Buršíková, Ph.D., učo 2418. Změněno: 31. 3. 2010 07:16.
Anotace
The aim of the work was to study the deposition of thin films in ATMOSPHERIC PRESSURE HOMOGENOUS DISCHARGE IN N2 + HMDSO + O2 atmosphere. The mechanical properties of films were studied by indentation techniques. The films exhibited hardnes in the range from 0.5 to 7 GPa depending on the deposition conditions.
Anotace česky
Článek se zabývá depozicí tenkých vrstev v atmosférickém homogenním výboji ve směsi N2 + HMDSO + O2. Mechanické vlastnosti tenkých vrstev byly změřeny metodou indentační a tvrdost vrstev byla v rozmezí 0.5 až 7 GPa v závislosti na depozičních podmínkách.
Návaznosti
GA202/06/1473, projekt VaVNázev: Depozice tenkých vrstev v dielektrických bariérových výbojích za atmosférického tlaku
Investor: Grantová agentura ČR, Depozice tenkých vrstev v dielektrických bariérových výbojích za atmosférického tlaku
VytisknoutZobrazeno: 4. 5. 2024 21:08