2008
DEPENDENCE OF HIGHER HARMONIC FREQUENCIES MEASURED IN CAPACITIVELY COUPLED PLASMA ON THE MATCHING UNIT PARAMETERS
DVOŘÁK, Pavel a Zdeněk MORAVECZákladní údaje
Originální název
DEPENDENCE OF HIGHER HARMONIC FREQUENCIES MEASURED IN CAPACITIVELY COUPLED PLASMA ON THE MATCHING UNIT PARAMETERS
Název česky
Závislost vyšších harmonických frekvencí měřených v kapacitně vázaném výboji na parametrech přizpůsobovacího členu
Autoři
DVOŘÁK, Pavel (203 Česká republika, garant) a Zdeněk MORAVEC (203 Česká republika)
Vydání
Chemické listy, Brno, Česká společnost chemická, 2008, 1803-2389
Další údaje
Jazyk
angličtina
Typ výsledku
Článek v odborném periodiku
Obor
10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele
Česká republika
Utajení
není předmětem státního či obchodního tajemství
Kód RIV
RIV/00216224:14310/08:00027076
Organizační jednotka
Přírodovědecká fakulta
UT WoS
000208452600011
Klíčová slova anglicky
plasma; discharge; higher harmonics; capacitive; matching
Štítky
Změněno: 22. 12. 2008 11:16, doc. Mgr. Pavel Dvořák, Ph.D.
V originále
Higher harmonic frequencies of electric voltage and current are significant features of low-pressure capacitively coupled discharges. Their behaviour is quite complex since it is a function of many plasma and reactor parameters. This article deals with the influence of matching unit parameters on amplitudes of higher harmonics, which were measured by means of an uncompensated probe immersed into the plasma of an asymmetric capacitive discharge. Most of the harmonics reached their maxima in the case of optimal matching, i.e. when the RF power delivered to the discharge was maximal. However, the amount of the power delivered to the discharge did not explain the behaviour of higher harmonics sufficiently. It was shown that at our experimental conditions the behaviour of higher harmonics was determined by the sheath voltage.
Česky
Byla měřena závislost amplitud vyšších harmonických frekvencí generovaných nízkotlakým asymetrickým kapacitně vázaným výbojem na parametrech přizpůsobovacího členu. Většina vyšších harmonických frekvencí měla největší amplitudu při optimálním přizpůsobení, nicméně hodnota výkonu dodávaného do plazmatu nevysvětlila chování harmonik dostatečně. Ukázalo se, že chování vyšších harmonických frekvencí je řízeno napětím na vrstvě prostorového náboje u elktrody.
Návaznosti
| MSM0021622411, záměr |
|