Influence of N2 and CH4 on depositon rate of boron based thin films prepared by magnetron sputtering
| ELIÁŠ, Marek, Pavel SOUČEK a Petr VAŠINA. Influence of N2 and CH4 on depositon rate of boron based thin films prepared by magnetron sputtering. Chemické listy. 2008, roč. 102, č. 1, s. 1506-1509. ISSN 1803-2389. |
|
Další formáty:
BibTeX
LaTeX
RIS
|
| Základní údaje | |
|---|---|
| Originální název | Influence of N2 and CH4 on depositon rate of boron based thin films prepared by magnetron sputtering |
| Název česky | Vliv N2 a CH4 na rychlost růstu borových vrstev připravených magnetronovým naprašováním |
| Autoři | ELIÁŠ, Marek (203 Česká republika), Pavel SOUČEK (203 Česká republika) a Petr VAŠINA (203 Česká republika, garant). |
| Vydání | Chemické listy, 2008, 1803-2389. |
| Další údaje | |
|---|---|
| Originální jazyk | angličtina |
| Typ výsledku | Článek v odborném periodiku |
| Obor | 10305 Fluids and plasma physics |
| Stát vydavatele | Česká republika |
| Utajení | není předmětem státního či obchodního tajemství |
| Kód RIV | RIV/00216224:14310/08:00025123 |
| Organizační jednotka | Přírodovědecká fakulta |
| UT WoS | 000208452600046 |
| Klíčová slova anglicky | hysteresis; reactive sputtering; hybrid deposition process |
| Štítky | hybrid deposition process, hysteresis, reactive sputtering |
| Příznaky | Mezinárodní význam, Recenzováno |
| Změnil | Změnil: prof. Mgr. Petr Vašina, Ph.D., učo 21782. Změněno: 27. 3. 2010 09:34. |
| Anotace |
|---|
| The paper study deposition rate of boron based thin films prepared by means of hybrid PVD-PECVD process and derive conclusions about process behaviour. Paper, interdisciplinary study of plasma physics |
| Anotace česky |
|---|
| Vliv N2 a CH4 na rychlost růstu borových vrstev připravených magnetronovým naprašováním, článek, mezioborova studie |
| Návaznosti | |
|---|---|
| GP202/08/P038, projekt VaV | Název: Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev |
| Investor: Grantová agentura ČR, Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev | |
| MSM0021622411, záměr | Název: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek |
| Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek | |
VytisknoutZobrazeno: 26. 4. 2024 09:54