J 2008

Influence of N2 and CH4 on depositon rate of boron based thin films prepared by magnetron sputtering

ELIÁŠ, Marek; Pavel SOUČEK a Petr VAŠINA

Základní údaje

Originální název

Influence of N2 and CH4 on depositon rate of boron based thin films prepared by magnetron sputtering

Název česky

Vliv N2 a CH4 na rychlost růstu borových vrstev připravených magnetronovým naprašováním

Autoři

ELIÁŠ, Marek; Pavel SOUČEK a Petr VAŠINA

Vydání

Chemické listy, 2008, 1803-2389

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Článek v odborném periodiku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Česká republika

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Odkazy

Označené pro přenos do RIV

Ano

Kód RIV

RIV/00216224:14310/08:00025123

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

UT WoS

EID Scopus

Klíčová slova anglicky

hysteresis; reactive sputtering; hybrid deposition process

Štítky

Příznaky

Mezinárodní význam, Recenzováno
Změněno: 22. 7. 2024 10:57, Mgr. Marie Novosadová Šípková, DiS.

Anotace

ORIG CZ

V originále

The paper study deposition rate of boron based thin films prepared by means of hybrid PVD-PECVD process and derive conclusions about process behaviour. Paper, interdisciplinary study of plasma physics

Česky

Vliv N2 a CH4 na rychlost růstu borových vrstev připravených magnetronovým naprašováním, článek, mezioborova studie

Návaznosti

GP202/08/P038, projekt VaV
Název: Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev
Investor: Grantová agentura ČR, Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev
MSM0021622411, záměr
Název: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek