FIKAROVÁ ZRZAVECKÁ, Olga, Alois NEBOJSA, Karel NAVRÁTIL, Stanislav NEŠPŮREK and Josef HUMLÍČEK. Dynamics of UV degradation of PMPSi in vacuum and in the air using in-situ ellipsometry. physica status solidi (c). 2008, vol. 5, No 5, p. 1176-1179. ISSN 1610-1642.
Other formats:   BibTeX LaTeX RIS
Basic information
Original name Dynamics of UV degradation of PMPSi in vacuum and in the air using in-situ ellipsometry
Name in Czech Dynamika UV degradace PMPSi ve vakuu a na vzduchu s využitím in-situ elipsometrie
Authors FIKAROVÁ ZRZAVECKÁ, Olga (203 Czech Republic), Alois NEBOJSA (203 Czech Republic), Karel NAVRÁTIL (203 Czech Republic), Stanislav NEŠPŮREK (203 Czech Republic) and Josef HUMLÍČEK (203 Czech Republic, guarantor).
Edition physica status solidi (c), 2008, 1610-1642.
Other information
Original language English
Type of outcome Article in a journal
Field of Study 10302 Condensed matter physics
Country of publisher Germany
Confidentiality degree is not subject to a state or trade secret
RIV identification code RIV/00216224:14310/08:00027153
Organization unit Faculty of Science
UT WoS 000256862500063
Keywords in English vacuum spectroscopic ellipsometry; ultraviolet exposure; PMPSi; polymers
Tags PMPSi, polymers, ultraviolet exposure, vacuum spectroscopic ellipsometry
Tags International impact, Reviewed
Changed by Changed by: prof. RNDr. Josef Humlíček, CSc., učo 307. Changed: 9/4/2010 15:46.
Abstract
We present a comparative study of UV degradation of poly[methyl(phenyl)silane] (PMPSi) thin films on Si substrate in HV and in the air. When exposed to UV light with energies around 3.6 eV, the Si backbone scission occurs. The degradation rate is influenced by the presence of oxygen, which is bonded to the Si atoms following the backbone scission. In our experiments, the samples were placed in an HV chamber and ellipsometric spectra were continuously recorded in the 3.3-5.0 eV range. The combined tungsten (halogen)-deuterium source ensuring a proper level of light intensity used for both exposition and measurement. During 100 hours exposures at atmospheric pressure, the PMPSi film degraded completely and its optical response did not change further. Degradation of the sample exposed in vacuum (at the pressure of 5 x 10-6 Pa) is slower and stops earlier. Ellipsometric technique allowed us to perform detailed studies of the degradation dynamics.
Abstract (in Czech)
Srovnávací studie UV degradace tenkých vrstev PMPSi na Si substrátech ve vysokém vakuu a na vzduchu.Při expozici UV zářením o energiích okolo 3.6 eV je pozorován rozpad Si páteře polymeru PMPSi. Degradační rychlost je závislá na přítomnosti kyslíku, který se váže do Si páteře v místech přetržení. V experimentu byly vzorky umístěny ve vakuové komoře se spektroskopickým elipsometrem, k expozici a současně měření byl použit kombinovaný světelný zdroj halogen - deutherium. Elipsometrická spektra byla zaznamenávána kontinuálně v intervalu 3.3-5.0 eV. Po 100h expozici za atmosférického tlaku PMPSi vrstvy kompletně zdegradovaly, optická odezva se dále neměnila. Degradace vzorku exponovaného ve vakuu (5 x 10-6 Pa) byla pomalejší a zastavila se dříve. Ukázalo se, že elipsometrické metody umožňují detailní studium degradační dynamiky.
Links
MSM0021622410, plan (intention)Name: Fyzikální a chemické vlastnosti pokročilých materiálů a struktur
Investor: Ministry of Education, Youth and Sports of the CR, Physical and chemical properties of advanced materials and structures
PrintDisplayed: 10/5/2024 00:09