2008
Ionization Processes and Plasma Chemistry in Pulsed RF Glow Discharge TOF Mass Spectroscopy for Thin Film Depth Profile Analyses
GROZA, A., A. SURMEIAN, C. DIPLASU, A. TEMPEZ, P. CHAPON et. al.Základní údaje
Originální název
Ionization Processes and Plasma Chemistry in Pulsed RF Glow Discharge TOF Mass Spectroscopy for Thin Film Depth Profile Analyses
Název česky
Ionizační procesy a plazmová chemie v pulzním RF výboji TOF hmotnostního spektrometru užitá pro hloubkové profily tenkých vrstev
Autoři
GROZA, A. (642 Rumunsko), A. SURMEIAN (642 Rumunsko), C. DIPLASU (642 Rumunsko), A. TEMPEZ (250 Francie), P. CHAPON (250 Francie), L. LOBO (724 Španělsko), L. BORDEL (724 Španělsko), Tereza SCHMIDTOVÁ (203 Česká republika), Petr VAŠINA (203 Česká republika, garant), P. BELENGUER (250 Francie), T. NELIS (250 Francie), P. GUILLOT (250 Francie), N. TUCCITO (380 Itálie) a A. LICCIARDELLO (380 Itálie)
Vydání
Brno, Book of Abstracts, Second Central European Symposium on Plasma Chemistry, od s. 72-73, 2 s. 2008
Nakladatel
Masarykova univerzita
Další údaje
Jazyk
angličtina
Typ výsledku
Stať ve sborníku
Obor
10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele
Česká republika
Utajení
není předmětem státního či obchodního tajemství
Kód RIV
RIV/00216224:14310/08:00027406
Organizační jednotka
Přírodovědecká fakulta
Klíčová slova anglicky
depth profiles; TOF spectrometry
Štítky
Příznaky
Mezinárodní význam, Recenzováno
Změněno: 14. 1. 2009 17:00, prof. Mgr. Petr Vašina, Ph.D.
V originále
Ionization Processes and Plasma Chemistry in Pulsed RF Glow Discharge TOF Mass Spectroscopy for Thin Film Depth Profile Analyses, proceeding
Česky
Ionizační procesy a plazmová chemie v pulzním RF výboji TOF hmotnostního spektrometru užitá pro hloubkové profily tenkých vrstev, sborník
Návaznosti
| MSM0021622411, záměr |
|