VAŠINA, Petr a Pavel DVOŘÁK. Higher harmonic frequencies of discharge voltages as extremely sensitive marker of state of RF reactive sputtering deposition process. In Book of Contributed Papers of 17th Symposium on Applications of Plasma Processes. Bratislava: Comenius University in Bratislava, 2009, s. 253. ISBN 978-80-89186-45-7.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Higher harmonic frequencies of discharge voltages as extremely sensitive marker of state of RF reactive sputtering deposition process
Název česky Vyssi harmonicke frekvence jako ukazatel stavu reaktivniho magnetronoveho depozicniho procesu
Autoři VAŠINA, Petr (203 Česká republika, garant) a Pavel DVOŘÁK (203 Česká republika).
Vydání Bratislava, Book of Contributed Papers of 17th Symposium on Applications of Plasma Processes, s. 253-253, 2009.
Nakladatel Comenius University in Bratislava
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Stať ve sborníku
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Slovensko
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Kód RIV RIV/00216224:14310/09:00029205
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
ISBN 978-80-89186-45-7
Klíčová slova anglicky reactive sputtering
Štítky reactive sputtering
Příznaky Mezinárodní význam, Recenzováno
Změnil Změnil: prof. Mgr. Petr Vašina, Ph.D., učo 21782. Změněno: 20. 2. 2009 20:17.
Anotace
Higher harmonic frequencies of discharge voltages as extremely sensitive marker of state of RF reactive sputtering deposition process, proceeding
Anotace česky
Vyssi harmonicke frekvence jako ukazatel stavu reaktivniho magnetronoveho depozicniho procesu, konferenční sborník
Návaznosti
GP202/08/P038, projekt VaVNázev: Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev
Investor: Grantová agentura ČR, Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev
MSM0021622411, záměrNázev: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
VytisknoutZobrazeno: 25. 8. 2024 11:14