2009
Harmonic analysis of discharge voltages as a tool to control the RF sputtering deposition process
VAŠINA, Petr a Pavel DVOŘÁKZákladní údaje
Originální název
Harmonic analysis of discharge voltages as a tool to control the RF sputtering deposition process
Název česky
Analýza harmonických složek napětí v plazmatu jako nástroj kontrolu vf. naprašování
Autoři
VAŠINA, Petr (203 Česká republika, garant) a Pavel DVOŘÁK (203 Česká republika)
Vydání
Europhysics Letters, European Physical Society, 2009, 0295-5075
Další údaje
Jazyk
angličtina
Typ výsledku
Článek v odborném periodiku
Obor
10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele
Francie
Utajení
není předmětem státního či obchodního tajemství
Impakt faktor
Impact factor: 2.893
Kód RIV
RIV/00216224:14310/09:00029226
Organizační jednotka
Přírodovědecká fakulta
UT WoS
000263692500019
Klíčová slova anglicky
higher harmonics; plasma; discharge; reactive sputtering; magnetron
Štítky
Příznaky
Mezinárodní význam, Recenzováno
Změněno: 24. 6. 2009 14:05, prof. Mgr. Petr Vašina, Ph.D.
V originále
The reactive magnetron sputtering deposition process controlled by the flow of the reactive gas exhibits processing stability problems. Since the optimal experimental conditions lie very close to the abrupt transition from the metallic to the compound mode, the range at which the films with the right stoichiometry are deposited at high deposition rates is strongly limited and permanent process monitoring is necessary. A sensitive method for the process monitoring is proposed which is based on the measurement of amplitudes of fundamental or higher harmonic frequencies of discharge voltages during the radio-frequency sputtering deposition process. The voltage waveform recorded by the uncompensated probe placed in the vicinity of the plasma contains much higher relative proportion of higher harmonics than the waveform measured on the cathode. Some of the harmonics are extremely sensitive markers of the transition between the two regimes of interest. For example, the amplitude of some harmonics measured by the probe change severalfold by the transition compared to the conventionally used bias on the cathode, which changes typically only by a few percents. The proposed method can even reach the sensitivity of optical emission spectroscopy mainly for reactive sputtering of those elements whose sputtering yield does not differ substantially in the metallic and in the compound state.
Česky
Popis velmi citlivé metody monitorování stavu vysokofrekvenčního reaktivního magnetronového naprašování pomocí sledování amplitud vyšších harmonických frekvencí generovaných výbojem.
Návaznosti
| GP202/08/P038, projekt VaV |
| ||
| MSM0021622411, záměr |
|