2009
Optical Characterization of Ultra-Thin Iron and Iron Oxide Films
NEČAS, David, Lenka ZAJÍČKOVÁ, Daniel FRANTA, Pavel SŤAHEL, Petr MIKULÍK et. al.Základní údaje
Originální název
Optical Characterization of Ultra-Thin Iron and Iron Oxide Films
Název česky
Optická charakterizace ultratenkých vrstev železa a kysličníků železa
Autoři
NEČAS, David (203 Česká republika, domácí), Lenka ZAJÍČKOVÁ (203 Česká republika, garant, domácí), Daniel FRANTA (203 Česká republika, domácí), Pavel SŤAHEL (203 Česká republika, domácí), Petr MIKULÍK (203 Česká republika), Mojmír MEDUŇA (203 Česká republika, domácí) a Miroslav VALTR (203 Česká republika)
Vydání
e-Journal of Surface Science and Nanotechnology, Tokyo, The Surface Science Society of Japan, 2009, 1348-0391
Další údaje
Jazyk
angličtina
Typ výsledku
Článek v odborném periodiku
Obor
10302 Condensed matter physics
Stát vydavatele
Japonsko
Utajení
není předmětem státního či obchodního tajemství
Kód RIV
RIV/00216224:14310/09:00028505
Organizační jednotka
Přírodovědecká fakulta
Klíčová slova česky
železo; kysličník železa; elipsometrie; spektrofotometrie; odrazivost Röntgenových paprsků
Klíčová slova anglicky
iron; iron oxide; thin films; ellipsometry; spectrophotometry; X-ray reflection
Příznaky
Mezinárodní význam, Recenzováno
Změněno: 27. 3. 2013 09:17, doc. Mgr. Lenka Zajíčková, Ph.D.
V originále
Ultra-thin films of 57Fe deposited on silicon substrates and SiOxCyHz support layers and subsequently oxidized in laboratory atmosphere are studied by two optical methods: the combination of UV/VIS/NIR spectroscopic ellipsometry and spectrophotometry, used to find layer thicknesses and optical constants, and X-ray specular reflectometry, used to obtain the electron density depth profile. The results of both methods are compared and found to be in a relatively good agreement.
Česky
Velmi tenké vrstvy 57Fe připravené na křemíkových podložkách a podpůrných vrstvách z SiOxCyHz a následně okysličené v laboratorní atmosféře jsou studovány pomocí dvou optických metod: kombinace UV/vis/NIR spektroskopické elipsometri a spektrofotometrie, použité k nalezení tloušťek a optických konstant, a odrazivosti Röntgenových paprsků, použité k získání profilu elektronové hustoty. Výsledky obou metod jsou srovnány a shledány býti v poměrně dobré shodě.
Návaznosti
| KAN311610701, projekt VaV |
| ||
| MSM0021622410, záměr |
| ||
| MSM0021622411, záměr |
|