SCHMIDTOVÁ, Tereza a Petr VAŠINA. Modelling of surface processes taking place during reactive magnetron sputtering deposition process with simultaneous adding of hydrogen and oxygen. In Book of Abstracts, Frontiers in Low Temperature Plasma Diagnostics 8. Brno: Brno University of Technology, 2009, s. 75-75. ISBN 978-80-214-3875-0.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Modelling of surface processes taking place during reactive magnetron sputtering deposition process with simultaneous adding of hydrogen and oxygen
Název česky Modelování magnetronového naprašování v dusiku a vodíku
Autoři SCHMIDTOVÁ, Tereza (203 Česká republika) a Petr VAŠINA (203 Česká republika, garant).
Vydání Brno, Book of Abstracts, Frontiers in Low Temperature Plasma Diagnostics 8, od s. 75-75, 1 s. 2009.
Nakladatel Brno University of Technology
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Stať ve sborníku
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Česká republika
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Kód RIV RIV/00216224:14310/09:00029368
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
ISBN 978-80-214-3875-0
Klíčová slova česky modelovaní; magnetron
Klíčová slova anglicky modelling; magnetron
Štítky magnetron, Modelling
Příznaky Mezinárodní význam, Recenzováno
Změnil Změnil: prof. Mgr. Petr Vašina, Ph.D., učo 21782. Změněno: 24. 6. 2009 13:15.
Anotace
Modelling of surface processes taking place during reactive magnetron sputtering deposition process with simultaneous adding of hydrogen and oxygen, procceding
Anotace česky
Modelování magnetronového naprašování v dusiku a vodíku, sborník
Návaznosti
GP202/08/P038, projekt VaVNázev: Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev
Investor: Grantová agentura ČR, Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev
MSM0021622411, záměrNázev: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
VytisknoutZobrazeno: 22. 7. 2024 23:17