D 2009

Is it possible to control degree of target poisoning during RF reactive magnetron sputtering by higher harmonic frequencies of discharge voltage?

VAŠINA, Petr a Pavel DVOŘÁK

Základní údaje

Originální název

Is it possible to control degree of target poisoning during RF reactive magnetron sputtering by higher harmonic frequencies of discharge voltage?

Název česky

Lze kontrolovat otravu terče při magnetronovém naprašování pomocí vyšších harmonických frekvencí výbojového napětí?

Autoři

VAŠINA, Petr (203 Česká republika, garant) a Pavel DVOŘÁK (203 Česká republika)

Vydání

Brno, Frontiers in Low Temperature Plasma Diagnostics 8 - Book of abstracts, s. 74-74, 2009

Nakladatel

VUT Brno

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Stať ve sborníku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Česká republika

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Kód RIV

RIV/00216224:14310/09:00029369

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

ISBN

978-80-214-3875-0

Klíčová slova česky

vyšší harmoniky; plazma; magnetron; naprašování

Klíčová slova anglicky

higher harmonics; plasma; discharge; reactive sputtering; magnetron

Příznaky

Mezinárodní význam
Změněno: 24. 6. 2009 13:46, doc. Mgr. Pavel Dvořák, Ph.D.

Anotace

V originále

Reactive sputtering controlled by flow of the reactive gas suffers from problems in processing stability caused by an abrupt transition between the metallic and the compound mode. During this transition many important parameters including target composition and gas composition change dramatically. A sensitive monitoring method is proposed which is based on the measurement of amplitudes of fundamental or higher harmonic frequencies of discharge voltages. Voltage waveforms recorded from the cathode and from an uncompensated probe were analyzed. Uncompensated probe exhibited higher sensitivity significantly better than sensitivity of any other known electrical method used for the control of magnetron sputtering process. Moreover, some particular experiments show that the changes in amplitudes of the harmonics by the transition are due to the changes of the target composition rather than due the change of the gas composition.

Česky

Kontrola otrávení terče při magnetronovém naprašování pomocí vyšších harmonických frekvencí napětí.

Návaznosti

GP202/08/P038, projekt VaV
Název: Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev
Investor: Grantová agentura ČR, Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev
MSM0021622411, záměr
Název: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek