D 2009

Hybrid PVD-PECVD sputtering deposition process - from properties of deposited films to process characteristics

ELIÁŠ, Marek, Pavel SOUČEK a Petr VAŠINA

Základní údaje

Originální název

Hybrid PVD-PECVD sputtering deposition process - from properties of deposited films to process characteristics

Název česky

Hybridní PVD-PECVD proces - od vlastností deponovaných vrstev k vlastnostem procesu

Autoři

ELIÁŠ, Marek (203 Česká republika), Pavel SOUČEK (203 Česká republika) a Petr VAŠINA (203 Česká republika, garant)

Vydání

Brno, Book of Abstracts, Frontiers in Low Temperature Plasma Diagnostics 8, od s. 87-87, 1 s. 2009

Nakladatel

Brno University of Technology

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Stať ve sborníku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Česká republika

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Kód RIV

RIV/00216224:14310/09:00029370

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

ISBN

978-80-214-3875-0

Klíčová slova česky

hybridní proces

Klíčová slova anglicky

hybrid PVD-PECVD

Štítky

Změněno: 24. 6. 2009 14:05, prof. Mgr. Petr Vašina, Ph.D.

Anotace

ORIG CZ

V originále

Hybrid PVD-PECVD sputtering deposition process - from properties of deposited films to process characteristics, proceeding

Česky

Hybridní PVD-PECVD proces - od vlastností deponovaných vrstev k vlastnostem procesu, sborník

Návaznosti

GP202/08/P038, projekt VaV
Název: Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev
Investor: Grantová agentura ČR, Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev
MSM0021622411, záměr
Název: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek