D 2008

Composition and functional properties of organosilicon plasma polymers from hexamethyldisiloxane and octamethylcyclotetrasiloxane

ZAJÍČKOVÁ, Lenka; Zuzana KUČEROVÁ; Vilma BURŠÍKOVÁ; Daniel FRANTA; Vratislav PEŘINA et. al.

Základní údaje

Originální název

Composition and functional properties of organosilicon plasma polymers from hexamethyldisiloxane and octamethylcyclotetrasiloxane

Název česky

Složení a funkční vlastnosti organosilikonových polymerů vytvářených z hexamethyldisiloxanu a octamethylcyclotetrasiloxanu

Autoři

ZAJÍČKOVÁ, Lenka; Zuzana KUČEROVÁ; Vilma BURŠÍKOVÁ; Daniel FRANTA; Vratislav PEŘINA a Anna MACKOVÁ

Vydání

WARRENDALE, ORGANIC/INORGANIC HYBRID MATERIALS - 2007, od s. 159-164, 6 s. 2008

Nakladatel

MATERIALS RESEARCH SOCIETY

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Stať ve sborníku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Velká Británie a Severní Irsko

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

ISBN

978-1-55899-967-1

ISSN

UT WoS

000256796400019

Klíčová slova anglicky

THIN-FILMS; HYBRID; DEPOSITION; SILICA; MODEL

Příznaky

Mezinárodní význam, Recenzováno
Změněno: 27. 3. 2013 09:19, doc. Mgr. Lenka Zajíčková, Ph.D.

Anotace

V originále

Hybrid organic-inorganic thin films with different fractions of silicon oxide were deposited in rf capacitively coupled discharges using pure hexamethyldisiloxane (HMDSO), octamethylcyclotetrasiloxane (D4) or 5 % HMDSO in O-2. The deposition in continuous wave (cw) mode was compared with pulsed conditions under which the discharge on-time was 5 ms and the off-time varied from 0.5 to 15 ms. The chemical composition of the films was studied by FTIR, RBS and ERDA. Their optical properties in UV/visible/NIR were determined from spectroscopic ellipsometry and reflectance measurements fitted with a Kramers-Kronig consistent dispersion model based on a parametrization of density of states. Film hardness and reduced modulus were determined from depth sensing indentation tests.

Česky

Hybrid organic-inorganic thin films with different fractions of silicon oxide were deposited in rf capacitively coupled discharges using pure hexamethyldisiloxane (HMDSO), octamethylcyclotetrasiloxane (D4) or 5 % HMDSO in O-2. The deposition in continuous wave (cw) mode was compared with pulsed conditions under which the discharge on-time was 5 ms and the off-time varied from 0.5 to 15 ms. The chemical composition of the films was studied by FTIR, RBS and ERDA. Their optical properties in UV/visible/NIR were determined from spectroscopic ellipsometry and reflectance measurements fitted with a Kramers-Kronig consistent dispersion model based on a parametrization of density of states. Film hardness and reduced modulus were determined from depth sensing indentation tests.

Návaznosti

MSM0021622411, záměr
Název: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
1K05025, projekt VaV
Název: Příprava nových Si-O(N)-C materiálů plazmochemickou metodou
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Příprava nových Si-O(N)-C materiálů plazmochemickou metodou