Reactive magnetron sputtering - modelling of different target utilization in metallic and compound ...
| VAŠINA, Petr a Tereza SCHMIDTOVÁ. Reactive magnetron sputtering - modelling of different target utilization in metallic and compound mode and situation when oxygen and hydrogen are added simultaneously. In E-MRS 2009 SYMPOSIUM P Protective coatings and Thin films’09. 2009. |
|
Další formáty:
BibTeX
LaTeX
RIS
|
| Základní údaje | |
|---|---|
| Originální název | Reactive magnetron sputtering - modelling of different target utilization in metallic and compound mode and situation when oxygen and hydrogen are added simultaneously |
| Název česky | Reaktivní magnetronové naprašování - modelování různého využítí terče a situace když je kyslík a vodík připouštěn současně |
| Autoři | VAŠINA, Petr (203 Česká republika, garant, domácí) a Tereza SCHMIDTOVÁ (203 Česká republika, domácí). |
| Vydání | E-MRS 2009 SYMPOSIUM P Protective coatings and Thin films’09, 2009. |
| Další údaje | |
|---|---|
| Originální jazyk | angličtina |
| Typ výsledku | Konferenční abstrakt |
| Obor | 10305 Fluids and plasma physics |
| Stát vydavatele | Francie |
| Utajení | není předmětem státního či obchodního tajemství |
| Kód RIV | RIV/00216224:14310/09:00049591 |
| Organizační jednotka | Přírodovědecká fakulta |
| Klíčová slova česky | reaktivní naprašování |
| Klíčová slova anglicky | reactive sputtering |
| Štítky | IK, rivok |
| Příznaky | Mezinárodní význam, Recenzováno |
| Změnil | Změnila: Mgr. Tereza Schmidtová, Ph.D., učo 151253. Změněno: 5. 4. 2012 14:19. |
| Anotace |
|---|
| Reactive magnetron sputtering - modelling of different target utilization in metallic and compound mode and situation when oxygen and hydrogen are added simultaneously, proceeding |
| Anotace česky |
|---|
| Reaktivní magnetronové naprašování - modelování různého využítí terče a situace když je kyslík a vodík připouštěn současně, sborník |
| Návaznosti | |
|---|---|
| GP202/08/P038, projekt VaV | Název: Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev |
| Investor: Grantová agentura ČR, Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev | |
| MSM0021622411, záměr | Název: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek |
| Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek | |
VytisknoutZobrazeno: 30. 7. 2024 22:17