Reactive magnetron sputtering - modelling of different target utilization in metallic and compound ...
VAŠINA, Petr a Tereza SCHMIDTOVÁ. Reactive magnetron sputtering - modelling of different target utilization in metallic and compound mode and situation when oxygen and hydrogen are added simultaneously. In E-MRS 2009 SYMPOSIUM P Protective coatings and Thin films’09. 2009. |
Další formáty:
BibTeX
LaTeX
RIS
|
Základní údaje | |
---|---|
Originální název | Reactive magnetron sputtering - modelling of different target utilization in metallic and compound mode and situation when oxygen and hydrogen are added simultaneously |
Název česky | Reaktivní magnetronové naprašování - modelování různého využítí terče a situace když je kyslík a vodík připouštěn současně |
Autoři | VAŠINA, Petr (203 Česká republika, garant, domácí) a Tereza SCHMIDTOVÁ (203 Česká republika, domácí). |
Vydání | E-MRS 2009 SYMPOSIUM P Protective coatings and Thin films’09, 2009. |
Další údaje | |
---|---|
Originální jazyk | angličtina |
Typ výsledku | Konferenční abstrakt |
Obor | 10305 Fluids and plasma physics |
Stát vydavatele | Francie |
Utajení | není předmětem státního či obchodního tajemství |
Kód RIV | RIV/00216224:14310/09:00049591 |
Organizační jednotka | Přírodovědecká fakulta |
Klíčová slova česky | reaktivní naprašování |
Klíčová slova anglicky | reactive sputtering |
Štítky | IK, rivok |
Příznaky | Mezinárodní význam, Recenzováno |
Změnil | Změnila: Mgr. Tereza Schmidtová, Ph.D., učo 151253. Změněno: 5. 4. 2012 14:19. |
Anotace |
---|
Reactive magnetron sputtering - modelling of different target utilization in metallic and compound mode and situation when oxygen and hydrogen are added simultaneously, proceeding |
Anotace česky |
---|
Reaktivní magnetronové naprašování - modelování různého využítí terče a situace když je kyslík a vodík připouštěn současně, sborník |
Návaznosti | |
---|---|
GP202/08/P038, projekt VaV | Název: Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev |
Investor: Grantová agentura ČR, Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev | |
MSM0021622411, záměr | Název: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek |
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek |
VytisknoutZobrazeno: 26. 9. 2024 23:59