J 2009

Towards limits of x-ray specular reflectivity

JÍŠA, Jan and Mojmír MEDUŇA

Basic information

Original name

Towards limits of x-ray specular reflectivity

Name in Czech

Limity metody rtg reflexe

Authors

JÍŠA, Jan (203 Czech Republic) and Mojmír MEDUŇA (203 Czech Republic, guarantor)

Edition

Materials Structure in Chemistry, Biology, Physics and Technology, Czech Republic, Czech and Slovak Crystallographic Associ, 2009, 1211-5894

Other information

Language

English

Type of outcome

Článek v odborném periodiku

Field of Study

10302 Condensed matter physics

Country of publisher

Czech Republic

Confidentiality degree

není předmětem státního či obchodního tajemství

RIV identification code

RIV/00216224:14310/09:00029733

Organization unit

Faculty of Science

Keywords (in Czech)

rtg odrazivost; Fourierova transformace; fotoresist

Keywords in English

x-ray reflectivity; fourier transform; photoresist

Tags

International impact
Změněno: 4/1/2010 17:36, Mgr. Mojmír Meduňa, Ph.D.

Abstract

ORIG CZ

V originále

Using the high resolution diffractometer we have successfully measured photoresist layers more than 1 um thick by x-rays. The thicknesses obtained by x-ray reflectivity correspond well to the ones obtained by optical reflection.

In Czech

Použitím difraktometru s vysokým rozlišením jsme úspěšně naměřili tloušťky fotoresistů více než 1um tlusté s rtg zářením. Tloušťka získaná z rtg odrazivosti dobře odpovídá tloušťce získané z optické odrazivosti.

Links

GA202/09/1013, research and development project
Name: Nukleace a růst kyslíkových precipitátů v křemíku
Investor: Czech Science Foundation, Nucleation and growth of oxygen precipitates in silicon
MSM0021622410, plan (intention)
Name: Fyzikální a chemické vlastnosti pokročilých materiálů a struktur
Investor: Ministry of Education, Youth and Sports of the CR, Physical and chemical properties of advanced materials and structures