2009
Homogenization of CZ Si wafers by Tabula Rasa annealing
MEDUŇA, Mojmír, Ondřej CAHA, Josef KUBĚNA, Alan KUBĚNA, Jiří BURŠÍK et. al.Základní údaje
Originální název
Homogenization of CZ Si wafers by Tabula Rasa annealing
Název česky
Homogenizace CZ Si desek pomocí žíhání Tabula Rasa
Autoři
Vydání
ICDS-25, 25th International Conference on Defects in Semiconductors, July 20-24, 2009 in St. Petersburg, 2009
Další údaje
Jazyk
angličtina
Typ výsledku
Konferenční abstrakt
Obor
10302 Condensed matter physics
Stát vydavatele
Rusko
Utajení
není předmětem státního či obchodního tajemství
Organizační jednotka
Přírodovědecká fakulta
ISBN
978-5-93634-048-2
UT WoS
000276029300038
Klíčová slova česky
křemík; infra red; precipitáty
Klíčová slova anglicky
Silicon; Infra red; Precipitates
Příznaky
Mezinárodní význam, Recenzováno
Změněno: 9. 4. 2010 14:49, doc. Mgr. Ondřej Caha, Ph.D.
V originále
The differences in oxygen precipitation, precipitate morphology and evolution of point defects in samples with and without Tabula Rasa applied were studied by experimental techniques such us infrared absorption spectroscopy, transmission electron microscopy, etching techniques and x-ray diffraction.
Česky
Rozdíly v precipitaci kyslíku, morfologie precipitátů a vývoj bodových defektů byly studovány pomocí experimentálních technik jako jsou infračervená absorpce, transmisní elektronová mikroskopie, leptací techniky a rtg difrakce.
Návaznosti
GA202/09/1013, projekt VaV |
| ||
MSM0021622410, záměr |
|