Impact of neutral gas temperatures on reactive magnetron sputtering
| SCHMIDTOVÁ, Tereza a Petr VAŠINA. Impact of neutral gas temperatures on reactive magnetron sputtering. In Potential and Applications of Thin Ceramic and Metal Coatings. Plzeň: University of West Bohemia, 2010, s. 75-76. ISBN 978-80-7043-894-7. |
|
Další formáty:
BibTeX
LaTeX
RIS
|
| Základní údaje | |
|---|---|
| Originální název | Impact of neutral gas temperatures on reactive magnetron sputtering |
| Název česky | Vilv teploty neutrálního plynu na reaktivní magnetronové naprašování |
| Autoři | SCHMIDTOVÁ, Tereza (203 Česká republika) a Petr VAŠINA (203 Česká republika, garant). |
| Vydání | Plzeň, Potential and Applications of Thin Ceramic and Metal Coatings, od s. 75-76, 2 s. 2010. |
| Nakladatel | University of West Bohemia |
| Další údaje | |
|---|---|
| Originální jazyk | angličtina |
| Typ výsledku | Stať ve sborníku |
| Obor | 10305 Fluids and plasma physics |
| Stát vydavatele | Česká republika |
| Utajení | není předmětem státního či obchodního tajemství |
| Kód RIV | RIV/00216224:14310/10:00044481 |
| Organizační jednotka | Přírodovědecká fakulta |
| ISBN | 978-80-7043-894-7 |
| Klíčová slova česky | magnetronové naprašování, modelování, teplota, hystereze |
| Klíčová slova anglicky | magnetron sputtering; modelling; temperature; hysteresis |
| Změnil | Změnila: Mgr. Tereza Schmidtová, Ph.D., učo 151253. Změněno: 2. 9. 2010 09:02. |
| Anotace |
|---|
| Temperature is an important parameter which influences whole sputtering process. A model of reactive magnetron sputtering was used to investigate an effect of different temperatures in reactor during reactive sputtering on a hysteresis behaviour of the sputtering. We report shifts of transitions between two modes of a reactive sputtering process. |
| Anotace česky |
|---|
| Teplota je důležitým parametrem, který ovlivňuje celý rozprašovací proces. Pro vyšetření vlivu různých teplot v reaktoru na hysterezní chování při procesu rozprašování byl použit model reaktivního magnetronového naprašování. Prezentuje posun ve skocích mezi dvěma módy reaktivního rozprašováního procesu. |
| Návaznosti | |
|---|---|
| GD104/09/H080, projekt VaV | Název: Plazmochemické procesy a jejich technologické aplikace |
| Investor: Grantová agentura ČR, Plazmochemické procesy a jejich technologické aplikace | |
| GP202/08/P038, projekt VaV | Název: Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev |
| Investor: Grantová agentura ČR, Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev | |
| MSM0021622411, záměr | Název: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek |
| Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek | |
VytisknoutZobrazeno: 5. 8. 2024 04:11