D 2010

Impact of neutral gas temperatures on reactive magnetron sputtering

SCHMIDTOVÁ, Tereza and Petr VAŠINA

Basic information

Original name

Impact of neutral gas temperatures on reactive magnetron sputtering

Name in Czech

Vilv teploty neutrálního plynu na reaktivní magnetronové naprašování

Authors

SCHMIDTOVÁ, Tereza (203 Czech Republic) and Petr VAŠINA (203 Czech Republic, guarantor)

Edition

Plzeň, Potential and Applications of Thin Ceramic and Metal Coatings, p. 75-76, 2 pp. 2010

Publisher

University of West Bohemia

Other information

Language

English

Type of outcome

Stať ve sborníku

Field of Study

10305 Fluids and plasma physics

Country of publisher

Czech Republic

Confidentiality degree

není předmětem státního či obchodního tajemství

RIV identification code

RIV/00216224:14310/10:00044481

Organization unit

Faculty of Science

ISBN

978-80-7043-894-7

Keywords (in Czech)

magnetronové naprašování, modelování, teplota, hystereze

Keywords in English

magnetron sputtering; modelling; temperature; hysteresis
Změněno: 2/9/2010 09:02, Mgr. Tereza Schmidtová, Ph.D.

Abstract

ORIG CZ

V originále

Temperature is an important parameter which influences whole sputtering process. A model of reactive magnetron sputtering was used to investigate an effect of different temperatures in reactor during reactive sputtering on a hysteresis behaviour of the sputtering. We report shifts of transitions between two modes of a reactive sputtering process.

In Czech

Teplota je důležitým parametrem, který ovlivňuje celý rozprašovací proces. Pro vyšetření vlivu různých teplot v reaktoru na hysterezní chování při procesu rozprašování byl použit model reaktivního magnetronového naprašování. Prezentuje posun ve skocích mezi dvěma módy reaktivního rozprašováního procesu.

Links

GD104/09/H080, research and development project
Name: Plazmochemické procesy a jejich technologické aplikace
Investor: Czech Science Foundation
GP202/08/P038, research and development project
Name: Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev
Investor: Czech Science Foundation, Study of hybrid deposition process and its application for thin film deposition
MSM0021622411, plan (intention)
Name: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministry of Education, Youth and Sports of the CR, Study and application of plasma chemical reactions in non-isothermic low temperature plasma and its interaction with solid surface