J 2010

Optical and mechanical characterization of ultrananocrystalline diamond films prepared in dual frequency discharges

KARÁSKOVÁ, Monika, Lenka ZAJÍČKOVÁ, Vilma BURŠÍKOVÁ, Daniel FRANTA, David NEČAS et. al.

Základní údaje

Originální název

Optical and mechanical characterization of ultrananocrystalline diamond films prepared in dual frequency discharges

Autoři

KARÁSKOVÁ, Monika (203 Česká republika, garant), Lenka ZAJÍČKOVÁ (203 Česká republika, domácí), Vilma BURŠÍKOVÁ (203 Česká republika, domácí), Daniel FRANTA (203 Česká republika, domácí), David NEČAS (203 Česká republika, domácí), Olga BLÁHOVÁ (203 Česká republika) a Jiří ŠPERKA (203 Česká republika, domácí)

Vydání

Surface & coatings technology, Elsevier Science, 2010, 0257-8972

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Článek v odborném periodiku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Nizozemské království

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Impakt faktor

Impact factor: 2.141

Kód RIV

RIV/00216224:14310/10:00040570

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

UT WoS

000275692100026

Klíčová slova anglicky

ultrananocrystalline diamond; bias enhanced nucleation; indentation hardness; ellipsometry; FTIR
Změněno: 27. 3. 2013 09:11, doc. Mgr. Lenka Zajíčková, Ph.D.

Anotace

V originále

Ultrananocrystalline diamond (UNCD) films were deposited directly on polished c-Si substrates in microwave discharge (2.45 GHz) combined with rf capacitive plasma (13.56 MHz) ignited at the substrate electrode. The rf discharge induced a dc self-bias accelerating ions towards the growing film during the whole deposition process. The substrate was either preheated in hydrogen discharge to the deposition temperature of 900 C or the deposition of intermediate layer started at about 200 C and reached 900 C in the 5th minute. The latter procedure resulted in the deposition of coating with the hardness of 70 GPa and very good fracture toughness. The analysis of optical measurement in UV-IR range confirmed the presence of 250 nm thick intermediate layer containing DLC and SiC materials.

Návaznosti

GA202/07/1669, projekt VaV
Název: Depozice termomechanicky stabilních nanostrukturovaných diamantu-podobných tenkých vrstev ve dvojfrekvenčních kapacitních výbojích
Investor: Grantová agentura ČR, Depozice termomechanicky stabilních nanostrukturovaných diamantu-podobných tenkých vrstev ve dvojfrekvenčních kapacitních výbojích
KAN311610701, projekt VaV
Název: Nanometrologie využívající metod rastrovací sondové mikroskopie
Investor: Akademie věd ČR, Nanometrologie využívající metod rastrovací sondové mikroskopie
MSM0021622411, záměr
Název: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek