2010
Behaviour of hybrid PVD-PECVD process of Ti sputtering in argon and acetylene atmosphere
SCHMIDTOVÁ, Tereza a Petr VAŠINAZákladní údaje
Originální název
Behaviour of hybrid PVD-PECVD process of Ti sputtering in argon and acetylene atmosphere
Název česky
Chování hybridního PVD-PECVD procesu Ti rozprašování v argonové a acetylenová atmosféře
Autoři
SCHMIDTOVÁ, Tereza (203 Česká republika) a Petr VAŠINA (203 Česká republika, garant)
Vydání
Liberec, Potential and Applications of Nanotretment of Medical Surface, s. 59-60, 2010
Nakladatel
Technical University of Liberec
Další údaje
Jazyk
angličtina
Typ výsledku
Stať ve sborníku
Obor
10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele
Česká republika
Utajení
není předmětem státního či obchodního tajemství
Kód RIV
RIV/00216224:14310/10:00044659
Organizační jednotka
Přírodovědecká fakulta
ISBN
978-80-7372-631-7
Klíčová slova česky
magnetronové naprašování, modelování, hybdrivní proces, hystereze
Klíčová slova anglicky
magnetron sputtering; modelling; hybrid process; hysteresis
Změněno: 2. 9. 2010 09:30, Mgr. Tereza Schmidtová, Ph.D.
V originále
Hybrid PVD-PECVD sputtering process was studied for the case of titanium target sputtering in argon and acetylene atmosphere. The hybrid PVD-PECVD process combines aspects of conventional sputtering of metal target with hydrocarbon vapour as a source of carbon. We present and discuss significant differences between behaviour of conventional reactive magnetron sputtering and such hybrid process.
Česky
Hybridní naprašovací process PVD-PECVD byl studován pro případ rozprašování titanového terče v atmosféře argon, acetylen. Hybridní PVD-PECVD proces kombinuje aspekty obvyklého rozprašování kovového terče s plynným uhlovodíkem, který je zdrojem uhlíku. Zde prezentujeme a diskutujeme výrazné rozdíly mezi chováním obvyklého reaktivního magnetronového naprašování s takovýmto hybridním procesem.
Návaznosti
| GD104/09/H080, projekt VaV |
| ||
| GP202/08/P038, projekt VaV |
| ||
| MSM0021622411, záměr |
|