2010
Nanocrystalline layer deposition by organometallic compound deposition in microwave discharges
JAŠEK, Ondřej, Petr SYNEK, Vít KUDRLE, Peter ZELINA, Vilma BURŠÍKOVÁ et. al.Základní údaje
Originální název
Nanocrystalline layer deposition by organometallic compound deposition in microwave discharges
Název česky
Depozice kovových nanokrystalických vrstvev v mikrovlnných výbojích
Autoři
JAŠEK, Ondřej, Petr SYNEK, Vít KUDRLE, Peter ZELINA, Vilma BURŠÍKOVÁ, Bohumil DAVID, Naděžda PIZÚROVÁ, Renata HANZLÍKOVÁ a Antonín REK
Vydání
1. vyd. Brno, Potential and applications of surface nanotreatment of polymers and glass : Book of Extended Abstracts, s. 25-25, 2010
Nakladatel
NANOcontact, Masaryk University
Další údaje
Jazyk
angličtina
Typ výsledku
Stať ve sborníku
Obor
10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele
Česká republika
Utajení
není předmětem státního či obchodního tajemství
Organizační jednotka
Přírodovědecká fakulta
Klíčová slova anglicky
nanocrystalline layer; iron pentacarbonyl; plasma; low-pressure discharge; microwave discharge
Změněno: 23. 11. 2010 02:26, Mgr. Peter Zelina
V originále
Microwave plasma torch (2,45 GHz, 300 W power) operating at atmospheric pressure and low pressure (several kPa) surface wave microwave discharge are used for deposition of nanocrystalline layers on various substrates such as silicon or glass. Both discharges are ignited in Ar and organometallic compound is introduced into the discharge. Thin layers are deposited on the substrate placed in direction of the gas flow. In case of microwave plasma torch the deposition temperature is varied from 100 to 700 Celsius degrees. Deposited films are analyzed by scanning electron microscopy (SEM) and energy-dispersive x-ray (EDX) analysis. Mechanical properties of the films are also evaluated.
Česky
Mikrovlnný plasmový torch (2,45 GHz, 300 W) operující při atmosférickém tlaku a nízkotlaký (několik kPa) výboj s povrchovou vlnou boli použité na depozici kovové nanokrystalické vrstvy na substráty jako křemík a sklo. Oba výboje byly zapáleny v argonovém plasmatu a do výboje byla následně přidaná organometalická sloučenina. V připadě plasmového torche se teplota pohybovala od 100 do 700 stupňů Celsia. Deponované filmy byly analyzované skenovacím elektronovým mikroskopem (SEM) a rentgenovou spektroskopií EDX. Určeny byly také mechanické vlastnosti vrstev.
Návaznosti
| GA202/08/0178, projekt VaV |
| ||
| GD104/09/H080, projekt VaV |
| ||
| MSM0021622411, záměr |
|