JAŠEK, Ondřej, Petr SYNEK, Vít KUDRLE, Peter ZELINA, Vilma BURŠÍKOVÁ, Bohumil DAVID, Naděžda PIZÚROVÁ, Renata HANZLÍKOVÁ and Antonín REK. Nanocrystalline layer deposition by organometallic compound deposition in microwave discharges. In Potential and applications of surface nanotreatment of polymers and glass : Book of Extended Abstracts. 1st ed. Brno: NANOcontact, Masaryk University, 2010, p. 25.
Other formats:   BibTeX LaTeX RIS
Basic information
Original name Nanocrystalline layer deposition by organometallic compound deposition in microwave discharges
Name in Czech Depozice kovových nanokrystalických vrstvev v mikrovlnných výbojích
Authors JAŠEK, Ondřej, Petr SYNEK, Vít KUDRLE, Peter ZELINA, Vilma BURŠÍKOVÁ, Bohumil DAVID, Naděžda PIZÚROVÁ, Renata HANZLÍKOVÁ and Antonín REK.
Edition 1. vyd. Brno, Potential and applications of surface nanotreatment of polymers and glass : Book of Extended Abstracts, p. 25-25, 2010.
Publisher NANOcontact, Masaryk University
Other information
Original language English
Type of outcome Proceedings paper
Field of Study 10305 Fluids and plasma physics
Country of publisher Czech Republic
Confidentiality degree is not subject to a state or trade secret
Organization unit Faculty of Science
Keywords in English nanocrystalline layer; iron pentacarbonyl; plasma; low-pressure discharge; microwave discharge
Changed by Changed by: Mgr. Peter Zelina, učo 269454. Changed: 23/11/2010 02:26.
Abstract
Microwave plasma torch (2,45 GHz, 300 W power) operating at atmospheric pressure and low pressure (several kPa) surface wave microwave discharge are used for deposition of nanocrystalline layers on various substrates such as silicon or glass. Both discharges are ignited in Ar and organometallic compound is introduced into the discharge. Thin layers are deposited on the substrate placed in direction of the gas flow. In case of microwave plasma torch the deposition temperature is varied from 100 to 700 Celsius degrees. Deposited films are analyzed by scanning electron microscopy (SEM) and energy-dispersive x-ray (EDX) analysis. Mechanical properties of the films are also evaluated.
Abstract (in Czech)
Mikrovlnný plasmový torch (2,45 GHz, 300 W) operující při atmosférickém tlaku a nízkotlaký (několik kPa) výboj s povrchovou vlnou boli použité na depozici kovové nanokrystalické vrstvy na substráty jako křemík a sklo. Oba výboje byly zapáleny v argonovém plasmatu a do výboje byla následně přidaná organometalická sloučenina. V připadě plasmového torche se teplota pohybovala od 100 do 700 stupňů Celsia. Deponované filmy byly analyzované skenovacím elektronovým mikroskopem (SEM) a rentgenovou spektroskopií EDX. Určeny byly také mechanické vlastnosti vrstev.
Links
GA202/08/0178, research and development projectName: Syntéza magnetických nanočástic na bázi Fe v nízkoteplotním mikrovlnném plazmatu
Investor: Czech Science Foundation, Synthesis of Fe-based magnetic nanoparticles in low-temperature microwave plasma
GD104/09/H080, research and development projectName: Plazmochemické procesy a jejich technologické aplikace
Investor: Czech Science Foundation
MSM0021622411, plan (intention)Name: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministry of Education, Youth and Sports of the CR, Study and application of plasma chemical reactions in non-isothermic low temperature plasma and its interaction with solid surface
PrintDisplayed: 18/5/2024 22:39