Behaviour of Hybrid PVD-PECVD in Comparison with Conventional Reactive Magnetron Sputtering.
| SCHMIDTOVÁ, Tereza a Petr VAŠINA. Behaviour of Hybrid PVD-PECVD in Comparison with Conventional Reactive Magnetron Sputtering. In GEC/ICRP 2010. 2010. ISSN 0003-0503. |
|
Další formáty:
BibTeX
LaTeX
RIS
|
| Základní údaje | |
|---|---|
| Originální název | Behaviour of Hybrid PVD-PECVD in Comparison with Conventional Reactive Magnetron Sputtering. |
| Název česky | Chování hybridního PVD-PECVD procesu ve srovnání s tradičním reaktivním magnetronovým naprašováním. |
| Autoři | SCHMIDTOVÁ, Tereza (203 Česká republika, domácí) a Petr VAŠINA (203 Česká republika, garant, domácí). |
| Vydání | GEC/ICRP 2010, 2010. |
| Další údaje | |
|---|---|
| Originální jazyk | angličtina |
| Typ výsledku | Konferenční abstrakt |
| Obor | 10305 Fluids and plasma physics |
| Stát vydavatele | Francie |
| Utajení | není předmětem státního či obchodního tajemství |
| Kód RIV | RIV/00216224:14310/10:00045789 |
| Organizační jednotka | Přírodovědecká fakulta |
| ISSN | 0003-0503 |
| Klíčová slova česky | magnetronové naprašování; hystereze; hybridní PVD-PECVD proces |
| Klíčová slova anglicky | magnetron sputtering; hysteresis; hybrid PVD-PECVD process |
| Změnil | Změnila: Mgr. Tereza Schmidtová, Ph.D., učo 151253. Změněno: 4. 1. 2011 09:48. |
| Anotace |
|---|
| Behaviour of Hybrid PVD-PECVD Process in Comparison with Conventional Reactive Magnetron Sputtering. Modelling of hybrid PVD-PECVd process. |
| Návaznosti | |
|---|---|
| GD104/09/H080, projekt VaV | Název: Plazmochemické procesy a jejich technologické aplikace |
| Investor: Grantová agentura ČR, Plazmochemické procesy a jejich technologické aplikace | |
| GP202/08/P038, projekt VaV | Název: Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev |
| Investor: Grantová agentura ČR, Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev | |
| MSM0021622411, záměr | Název: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek |
| Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek | |
VytisknoutZobrazeno: 5. 8. 2024 04:13