MURESAN, Mihai George, Lenka ZAJÍČKOVÁ, Vilma BURŠÍKOVÁ, Daniel FRANTA, David NEČAS a Vratislav PEŘINA. Multilayered films based on DLC, DLC:N and SiOx grown by PECVD on stainless steel. In E-MRS 2011 Spring Meeting. 2011.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Multilayered films based on DLC, DLC:N and SiOx grown by PECVD on stainless steel
Autoři MURESAN, Mihai George (642 Rumunsko, garant, domácí), Lenka ZAJÍČKOVÁ (203 Česká republika, domácí), Vilma BURŠÍKOVÁ (203 Česká republika, domácí), Daniel FRANTA (203 Česká republika, domácí), David NEČAS (203 Česká republika, domácí) a Vratislav PEŘINA (203 Česká republika, domácí).
Vydání E-MRS 2011 Spring Meeting, 2011.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Konferenční abstrakt
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Francie
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Kód RIV RIV/00216224:14310/11:00050060
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
Klíčová slova anglicky Diamond-like carbon DLC; Adhesion; Silicon oxide; Nitrogen doping; Stainless steel
Změnil Změnil: Mihai George Muresan, Ph.D., M.Sc., učo 365448. Změněno: 13. 12. 2011 16:09.
Anotace
Diamond-like carbon films (DLC) exhibit useful properties such as high hardness, low friction coefficient, high thermal conductivity and wide band gaps. However, due to an inherent internal stress and bad adhesion to stainless steel their use in industrial applications is limited. A better adhesion can be achieved by adding different dopants into a DLC matrix, especially for metallic substrates. Also, silicon based interlayers was used In order to promote the adhesion. Hydrogenated DLC films using different mixtures were prepared by plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) using capacitively coupled rf discharge at 13.56 MHz. Optical and mechanical methods were used to to determine functional properties. The hardness and Young's modulus of multilayered films were between 14 GPa and 80 GPa, respectively. For adhesion, the critical load Lc2 ranged from 2.1 N in the case of nitrogen containing DLC, to 11.8 N for multilayered film based on SiOx.
Návaznosti
GD104/09/H080, projekt VaVNázev: Plazmochemické procesy a jejich technologické aplikace
Investor: Grantová agentura ČR, Plazmochemické procesy a jejich technologické aplikace
MSM0021622411, záměrNázev: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
VytisknoutZobrazeno: 3. 8. 2024 10:17