2010
Povrchová plazmová úprava krystalických křemíkových desek určených pro výrobu solárních článků
SKÁCELOVÁ, Dana, Pavel SŤAHEL, Martin HANIČINEC, Pavlína BAŘINKOVÁ, Mirko ČERNÁK et. al.Základní údaje
Originální název
Povrchová plazmová úprava krystalických křemíkových desek určených pro výrobu solárních článků
Název česky
Povrchová plazmová úprava krystalických křemíkových desek určených pro výrobu solárních článků
Název anglicky
Plasma treatment of crystalline silicon wafers for production of solar cells
Autoři
SKÁCELOVÁ, Dana (203 Česká republika, garant, domácí), Pavel SŤAHEL (203 Česká republika, domácí), Martin HANIČINEC (703 Slovensko, domácí), Pavlína BAŘINKOVÁ (203 Česká republika) a Mirko ČERNÁK (203 Česká republika, domácí)
Vydání
Brno, Sborník příspěvků z 5. České fotovoltaické konference, od s. 45-49, 5 s. 2010
Nakladatel
Neuveden
Další údaje
Jazyk
čeština
Typ výsledku
Stať ve sborníku
Obor
10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele
Česká republika
Utajení
není předmětem státního či obchodního tajemství
Kód RIV
RIV/00216224:14310/10:00049477
Organizační jednotka
Přírodovědecká fakulta
ISBN
978-80-254-8906-2
Klíčová slova česky
Krystalický křemík atmosférické plazma plazmová modifikace povrchu
Klíčová slova anglicky
Crystalline silicon atmospheric pressure plasma surface modification
Změněno: 5. 4. 2012 16:42, Mgr. Dana Skácelová, Ph.D.
V originále
Předkládaný článek se zabývá možností využití plazmatu za atmosférického tlaku v oblasti polovodičového průmyslu, převážně pak v oblasti výroby solárních článků. Byl zkoumán vliv Difúzního Koplanárního Povrchového Výboje (DSCBD - Diffuse Coplanar Surface Barrier Discharge) na změnu povrchových vlastností krystalických křemíkových desek odebraných v různých fázích výroby solárních článků. Zjistilo se, že tato úprava dokonale hydrofilizuje všechny studované povrchy (texturované, leštěné, SOX, Si3N4, po difúzi…). Volná povrchová energie byla studována metodou kontaktních úhlů.
Anglicky
Contribution focused to application of atmospheric plasma in semiconductor industry, especially in production of solar cells. Plasma modification of surface properties of silicon wafers by DCSBD was investigated. This process makes all surfaces totaly wettable. Surface free energy was studied by contact angle measurement.
Návaznosti
KAN101630651, projekt VaV |
| ||
MSM0021622411, záměr |
|