D 2010

Povrchová plazmová úprava krystalických křemíkových desek určených pro výrobu solárních článků

SKÁCELOVÁ, Dana, Pavel SŤAHEL, Martin HANIČINEC, Pavlína BAŘINKOVÁ, Mirko ČERNÁK et. al.

Základní údaje

Originální název

Povrchová plazmová úprava krystalických křemíkových desek určených pro výrobu solárních článků

Název česky

Povrchová plazmová úprava krystalických křemíkových desek určených pro výrobu solárních článků

Název anglicky

Plasma treatment of crystalline silicon wafers for production of solar cells

Autoři

SKÁCELOVÁ, Dana (203 Česká republika, garant, domácí), Pavel SŤAHEL (203 Česká republika, domácí), Martin HANIČINEC (703 Slovensko, domácí), Pavlína BAŘINKOVÁ (203 Česká republika) a Mirko ČERNÁK (203 Česká republika, domácí)

Vydání

Brno, Sborník příspěvků z 5. České fotovoltaické konference, od s. 45-49, 5 s. 2010

Nakladatel

Neuveden

Další údaje

Jazyk

čeština

Typ výsledku

Stať ve sborníku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Česká republika

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Kód RIV

RIV/00216224:14310/10:00049477

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

ISBN

978-80-254-8906-2

Klíčová slova česky

Krystalický křemík atmosférické plazma plazmová modifikace povrchu

Klíčová slova anglicky

Crystalline silicon atmospheric pressure plasma surface modification

Štítky

Změněno: 5. 4. 2012 16:42, Mgr. Dana Skácelová, Ph.D.

Anotace

V originále

Předkládaný článek se zabývá možností využití plazmatu za atmosférického tlaku v oblasti polovodičového průmyslu, převážně pak v oblasti výroby solárních článků. Byl zkoumán vliv Difúzního Koplanárního Povrchového Výboje (DSCBD - Diffuse Coplanar Surface Barrier Discharge) na změnu povrchových vlastností krystalických křemíkových desek odebraných v různých fázích výroby solárních článků. Zjistilo se, že tato úprava dokonale hydrofilizuje všechny studované povrchy (texturované, leštěné, SOX, Si3N4, po difúzi…). Volná povrchová energie byla studována metodou kontaktních úhlů.

Anglicky

Contribution focused to application of atmospheric plasma in semiconductor industry, especially in production of solar cells. Plasma modification of surface properties of silicon wafers by DCSBD was investigated. This process makes all surfaces totaly wettable. Surface free energy was studied by contact angle measurement.

Návaznosti

KAN101630651, projekt VaV
Název: Tvorba nano-vrstev a nano-povlaků na textiliích s využitím plazmových povrchových úprav za atmosférického tlaku
Investor: Akademie věd ČR, Tvorba nano-vrstev a nano-povlaků na textiliích s využitím plazmových povrchových úprav za atmosférického tlaku
MSM0021622411, záměr
Název: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek