a 2011

Understanding of hybrid PVD-PECVD deposition process – titanium magnetron sputtering in argon and acetylene

SCHMIDTOVÁ, Tereza, Pavel SOUČEK a Petr VAŠINA

Základní údaje

Originální název

Understanding of hybrid PVD-PECVD deposition process – titanium magnetron sputtering in argon and acetylene

Autoři

SCHMIDTOVÁ, Tereza (203 Česká republika, domácí), Pavel SOUČEK (203 Česká republika, domácí) a Petr VAŠINA (203 Česká republika, garant, domácí)

Vydání

Potential and Applications of Surface Nanotreatment of Polymers and Glass, 2011

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Konferenční abstrakt

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Česká republika

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Kód RIV

RIV/00216224:14310/11:00050094

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

Klíčová slova anglicky

magnetron sputtering; hybrid PVD-PECVD; deposition process
Změněno: 6. 1. 2012 10:43, doc. Mgr. Pavel Souček, Ph.D.

Anotace

V originále

Hybrid PVD-PECVD process of titanium magnetron sputtering in argon and acetylene atmosphere combines aspects of both conventional techniques: sputtering of titanium target (PVD) and acetylene as a source of carbon for polymerization (PECVD). It has been used for deposition of nanocomposite material consisting of nanocrystallites of titanium carbide embedded in hydrogenated carbon matrix (nc-TiC/a-C:H) which is an industrially attractive material for protective coatings. The aim of this contribution is to describe and understand elementary processes influencing the deposition process. Evolution of discharge voltage and current, pressure and selected spectral line intensities as a function of acetylene supply flow is reported.

Návaznosti

ED2.1.00/03.0086, projekt VaV
Název: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
GD104/09/H080, projekt VaV
Název: Plazmochemické procesy a jejich technologické aplikace
Investor: Grantová agentura ČR, Plazmochemické procesy a jejich technologické aplikace
MSM0021622411, záměr
Název: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek