Study of oxide precipitates in silicon using X-ray diffraction techniques

CAHA, Ondřej, Silvie BERNATOVÁ, Mojmír MEDUŇA, Milan SVOBODA a Jiří BURŠÍK. Study of oxide precipitates in silicon using X-ray diffraction techniques. physica status solidi (a), Applied research. Wiley-Blackwell, 2011, roč. 208, č. 11, s. 2587-2590. ISSN 1862-6300. Dostupné z: https://dx.doi.org/10.1002/pssa.201184263.

Základní údaje

Originální název

Study of oxide precipitates in silicon using X-ray diffraction techniques

Název česky

Studium oxidových precipitátů v křemíku pomocí rtg difrakce

Autoři

CAHA, Ondřej (203 Česká republika, garant, domácí), Silvie BERNATOVÁ (203 Česká republika, domácí), Mojmír MEDUŇA (203 Česká republika, domácí), Milan SVOBODA (203 Česká republika) a Jiří BURŠÍK (203 Česká republika)

Vydání

physica status solidi (a), Applied research, Wiley-Blackwell, 2011, 1862-6300

---

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Článek v odborném periodiku

Obor

10302 Condensed matter physics

Stát vydavatele

Spojené státy

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Impakt faktor

Impact factor: 1.463

Kód RIV

RIV/00216224:14740/11:00050295

Organizační jednotka

Středoevropský technologický institut

DOI

http://dx.doi.org/10.1002/pssa.201184263

UT WoS

000297514200018

Klíčová slova česky

Czochralského křemík; difúzní rozptyl; defekty

Klíčová slova anglicky

CZOCHRALSKI-GROWN SILICON; DIFFUSE-SCATTERING; DEFECTS

Štítky

ok

Příznaky

Mezinárodní význam, Recenzováno

---

Anotace

V originále

The results of a study of oxide precipitates in Czochralski (CZ) grown silicon using two X-ray diffraction methods are reported. The diffuse scattering around the Bragg diffraction maxima was measured on a series of samples after various two-stage annealing treatment. Combining the analysis of diffuse scattering with other experimental techniques we were able to determine mean precipitate size and deformation field around the precipitates. The obtained data show that the deformation field is proportional to the precipitate volume and independent on the annealing temperature or annealing time. The dynamical diffraction in Laue geometry was used to measure precipitate concentration. The results are compared to the selective etching concentration measurement.

Česky

Publikovány jsou výsledky studia oxidových precipitátů s použitím dvou metod rtg difrakce. Byl měřen difúzní rozptyl kolem Braggových difrakčních maxim série vzorků připravených různým dvoustupňovým žíháním. Bylo určeno deformační pole kolem precipitátů. Dále byla použita dynamická difrakce v Laueho uspořádání pro měření koncentrace defektů. Výsledky byly porovnány s měřením leptových důlků.

---

Návaznosti

CZ.1.05/1.1.00/02.0068, interní kód MU	Název: CEITEC - středoevropský technologický institut (Akronym: CEITEC) Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, CEITEC - středoevropský technologický institut, 1.1 Evropská centra excelence
ED1.1.00/02.0068, projekt VaV	Název: CEITEC - central european institute of technology
GA202/09/1013, projekt VaV	Název: Nukleace a růst kyslíkových precipitátů v křemíku Investor: Grantová agentura ČR, Nukleace a růst kyslíkových precipiátů v křemíku
GP202/09/P410, projekt VaV	Název: Řízení elastického napětí v magnetických polovodičích Investor: Grantová agentura ČR, Řízení elastického napětí v magnetických polovodičích
MSM0021622410, záměr	Název: Fyzikální a chemické vlastnosti pokročilých materiálů a struktur Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Fyzikální a chemické vlastnosti pokročilých materiálů a struktur
MUNI/A/1047/2009, interní kód MU	Název: Struktura, elektronová struktura a optická odezva pokročilých materiálů Investor: Masarykova univerzita, Struktura, elektronová struktura a optická odezva pokročilých materiálů, DO R. 2020_Kategorie A - Specifický výzkum - Studentské výzkumné projekty