Mechanical Properties of Ultrananocrystalline Thin Films Deposited Using Dual Frequency Discharges

BURŠÍKOVÁ, Vilma, Olga BLÁHOVÁ, Monika KARÁSKOVÁ, Lenka ZAJÍČKOVÁ, Ondřej JAŠEK, Daniel FRANTA, Petr KLAPETEK a Jiří BURŠÍK. Mechanical Properties of Ultrananocrystalline Thin Films Deposited Using Dual Frequency Discharges. CHEMICKÉ LISTY. Praha: Česká společnost chemická, 2011, roč. 105, CHLSAC 105, s. 98 - 101. ISSN 0009-2770.

Základní údaje

Originální název

Mechanical Properties of Ultrananocrystalline Thin Films Deposited Using Dual Frequency Discharges

Název česky

Mechanické vlastnosti ultrananokrystalickýh tenkých vrstev deponovaných pomocí dvoufrekvenčního výboje

Autoři

BURŠÍKOVÁ, Vilma (203 Česká republika, domácí), Olga BLÁHOVÁ (203 Česká republika), Monika KARÁSKOVÁ (203 Česká republika, garant, domácí), Lenka ZAJÍČKOVÁ (203 Česká republika, domácí), Ondřej JAŠEK (203 Česká republika, domácí), Daniel FRANTA (203 Česká republika, domácí), Petr KLAPETEK (203 Česká republika) a Jiří BURŠÍK (203 Česká republika)

Vydání

CHEMICKÉ LISTY, Praha, Česká společnost chemická, 2011, 0009-2770

---

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Článek v odborném periodiku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Česká republika

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Odkazy

URL

Impakt faktor

Impact factor: 0.529

Kód RIV

RIV/00216224:14310/11:00049530

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

UT WoS

000308670500002

Klíčová slova česky

ultrananokrystalický diamand; plasmatem iniciovaná depozice z plynné fáze; dvoufrekvenční výboj; lokální mechanické vlastnosti

Klíčová slova anglicky

ultrananocrystalline diamond; plasma enhanced chemical vapor deposition; dual frequency discharge; local mechanical properties

Štítky

AKR, rivok

Příznaky

Mezinárodní význam, Recenzováno

---

Anotace

V originále

The present paper describes the deposition of nanostruc- tured diamond films with low surface roughness, high hard- ness and fracture toughness by microwave PECVD in the ASTeX type reactor from mixture of methane and hydrogen. Films were deposited on a mirror polished (111) oriented n- doped silicon substrate. The film exhibited relatively low roughness, the root mean square (RMS) of heights ranged from 20 to 9.1 nm, depending on the deposition conditions. The hardness was found to be in the range from 22 to 65 GPa and the elastic modulus ranged from 220 to 375 GPa, depend- ing on the film structure

Česky

Práce popisuje depozici nanostrukturních diamantových vrstev s nízkou povrchovou drsností, vysokou tvrdostí a odolností vůči zlomu. Ta byla prováděna metodou mikrovlného PECVD v reaktoru typu ASTeX. Užitými plyny byly vodík a metan

---

Návaznosti

GA202/07/1669, projekt VaV	Název: Depozice termomechanicky stabilních nanostrukturovaných diamantu-podobných tenkých vrstev ve dvojfrekvenčních kapacitních výbojích Investor: Grantová agentura ČR, Depozice termomechanicky stabilních nanostrukturovaných diamantu-podobných tenkých vrstev ve dvojfrekvenčních kapacitních výbojích
KAN311610701, projekt VaV	Název: Nanometrologie využívající metod rastrovací sondové mikroskopie Investor: Akademie věd ČR, Nanometrologie využívající metod rastrovací sondové mikroskopie
MSM0021622411, záměr	Název: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek