2011
Variable-angle spectroscopic ellipsometry of considerably non-uniform thin films
NEČAS, David, Ivan OHLÍDAL a Daniel FRANTAZákladní údaje
Originální název
Variable-angle spectroscopic ellipsometry of considerably non-uniform thin films
Název česky
Víceúhlová spektroskopická elipsometrie značně ne-uniformních tenkých vrstev
Autoři
NEČAS, David (203 Česká republika, garant, domácí), Ivan OHLÍDAL (203 Česká republika, domácí) a Daniel FRANTA (203 Česká republika, domácí)
Vydání
Journal of Optics, Bristol, IOP Publishing, 2011, 2040-8978
Další údaje
Jazyk
angličtina
Typ výsledku
Článek v odborném periodiku
Obor
10306 Optics
Stát vydavatele
Velká Británie a Severní Irsko
Utajení
není předmětem státního či obchodního tajemství
Odkazy
Impakt faktor
Impact factor: 1.573
Kód RIV
RIV/00216224:14310/11:00050732
Organizační jednotka
Přírodovědecká fakulta
UT WoS
000294294500018
Klíčová slova česky
elipsometrie; tenké vrstvy; neuniformita
Klíčová slova anglicky
ellipsometry; thin films; non-uniformity
Příznaky
Mezinárodní význam, Recenzováno
Změněno: 20. 4. 2012 12:03, Ing. Andrea Mikešková
Anotace
V originále
A theoretical approach for including considerable thickness non-uniformity of thin films into the formulae employed within variable-angle spectroscopic ellipsometry is presented. It is based on a combination of the efficient formulae derived for the thickness distribution density corresponding to a wedge-shaped non-uniformity with dependences of the mean thickness and root mean square (rms) of thickness differences on the angle of incidence that take into account the real non-uniformity of the shape. These dependences are derived using momentum expansion of the thickness distribution density. The derived formulae are tested by means of numerical analysis. An application of this approach is illustrated using the optical characterization of a selected sample of non-uniform SiOxCyHz thin films using phase-modulated ellipsometry.
Návaznosti
ED1.1.00/02.0068, projekt VaV |
| ||
FT-TA5/114, projekt VaV |
| ||
MSM0021622411, záměr |
|