Pokud jsou vrstvy velmi tenké (koherenční délka je mnohem větší než optická tloušťka vrstvy), pak lze vliv konečného rozlišení spektrofotometru zanedbat. Pokud jsou vrstvy velmi tlusté (koherenční délka je mnohem menší než optická tloušťka vrstvy), pak lze optické veličiny dané vrstvy vypočíst pomocí nekoherentního formalismu. Existuje však i oblast tlouštěk vrstev, kdy nelze užít nekoherentní formalismus a ani nelze zanedbat konečné rozlišení spektrofotometru. Hodnoty odrazivosti (nebo propustnosti) měřené spektofotometry je pak nutno vypočíst jako konvoluci odrazivosti (nebo propustnosti) coby funkce frekvence s funkcí reprezentující profil spektrální čáry. To se projeví především jako útlum amplitudy interferenčního vzoru. Cílem práce je určit přesné hodnoty šířky spektrální čáry pro různé nastavení spektrálního rozlišení spektrofotometrů a závislost této šířky na vlnové délce. Zkoumanými přístroji bude spektrofotometr Perkin Elmer Lambda1050 užívaný pro blízkou infračervenou, viditelnou a ultrafialovou oblast a spektrofotometr Bruker Vertex80v využívaný pro stření a vzdálenou infračervenou oblast. Pro různé nastavení spektrálního rozlišení bude měřeno několik vzorků, na kterých budou vytvořeny průhledné vrstvy s různými tloušťkami. Na základě porovnání naměřených spektrálních závislostí odrazivosti (nebo propustnosti) se spektrálními závislostmi měřenými s velmi vysokým spektrálním rozlišením pak budou určeny šířky spektrálních čar. V infračervené oblasti bude rovněž možno užít interfernece vznikající v tenkých křemíkových waferech, popřípadě měření na vzorku SOI (silicon on insulator).