Disertační práce

Reliéfní struktury připravené pomocí elektronové litografie

Relief structures prepared by electron beam litography

Mgr. Michal Urbánek, učo 43171
Anotace

Dizertační práce je zaměřena na litografické techniky v mikronovém a sub mikronovém rozlišení. Zaměřuje se na technologii elektronové litografie, technologii zápisu do polymerních materiálů (elektronových rezistů), následných procesů zpracování expozice, včetně vyvolání rezistu mokrou cestou. K vyhodnocení struktur připravených zápisem elektronovým svazkem se nejčastěji používá skenování reliéfu pomocí …více

Abstract

This work deals with lithographic techniques in micron and sub micron resolution. In the first part, the spotlight is focused on e-beam lithography, exposure technology, processing after exposure and resist development. The most useful method used for evaluation of relief structures is atomic force microscopy (AFM), because in contrast with scanning electron microscopy we are able to evaluate the …více

Práce zkontrolována:
22. 6. 2012 11:36, doc. Ing. Vladimír Kolařík, Ph.D.
Plný text práce
5,1 MB / soubor PDF
Jazyk práce
čeština čeština
Termín obhajoby
3. 10. 2012
Práce byla úspěšně obhájena

Vedoucí

doc. Ing. Vladimír Kolařík, Ph.D.
ÚFTP Fyz PřF MU

Oponenti

Mgr. Petr Klapetek, Ph.D.
Český metrologický ústav, Brno
prof. RNDr. Pavel Tománek, CSc.
Ústav fyziky, FEKT VUT
Autor posudku dosud neidentifikován.
Autor posudku dosud neidentifikován.

  • Přidání souboru

    Soubor nebo složku lze nahrát pomocí tlačítka Přidat.
  • Další operace se soubory

    Podrobnosti lze zjistit označením příslušného řádku.
  • Pohled pro experty

    Pro častou práci je možné zvolit režim Více možností.
  • Vyhledávání souborů

    Vyhledávaný výraz můžete zadat přímo do adresního řádku.
  • Rychlý přístup k souborům

    Pomocí funkce Nedávné je možné se rychle vrátit k právě prohlíženým souborům. Oblíbené soubory je také možné označit Hvězdičkou.