J 2012

Atmospheric pressure diffuse plasma in ambient air for ITO surface cleaning

HOMOLA, Tomáš, Jindrřch MATOUŠEK, Veronika MEDVECKÁ, Anna ZAHORANOVÁ, Martin KORMUNDA et. al.

Základní údaje

Originální název

Atmospheric pressure diffuse plasma in ambient air for ITO surface cleaning

Autoři

HOMOLA, Tomáš (703 Slovensko, garant), Jindrřch MATOUŠEK (203 Česká republika), Veronika MEDVECKÁ (703 Slovensko), Anna ZAHORANOVÁ (703 Slovensko, domácí), Martin KORMUNDA (203 Česká republika), Dušan KOVÁČIK (703 Slovensko, domácí) a Mirko ČERNÁK (703 Slovensko, domácí)

Vydání

Applied Surface Science, ELSEVIER (NORTH-HOLLAND), 2012, 0169-4332

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Článek v odborném periodiku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Nizozemské království

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Odkazy

Impakt faktor

Impact factor: 2.112

Kód RIV

RIV/00216224:14310/12:00061236

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

UT WoS

000304004100064

Klíčová slova anglicky

Atmospheric diffuse plasma; DCSBD; Filament-free plasma; ITO surface; Cleaning; XPS

Štítky

Příznaky

Mezinárodní význam, Recenzováno
Změněno: 9. 4. 2013 13:28, Ing. Andrea Mikešková

Anotace

V originále

Effects of atmospheric filament-free diffuse plasma in ambient air and oxygen by Diffuse Coplanar Surface Barrier Discharge (DCSBD) on surface of indium tin oxide (ITO) were studied. The DCSBD plasma treatment resulted in significant reduction of water contact angles (even for 1 s long treatment). The decrease can be explained by the chemical changes on surface. These were studied by XPS which shows considerable decrease in the carbon surface concentration. The detailed analysis of C1s peak indicates the increase of the highest binding energy component of the C1s peak that corresponds to polar bonds with oxygen, which may be also related to decrease of water contact angle. AFM measurement showed no significant effect of plasma on ITO surface morphology. (C) 2012 Elsevier B.V. All rights reserved.

Návaznosti

ED2.1.00/03.0086, projekt VaV
Název: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy