Modelling of plasma potential waveform in capacitively coupled discharges

DVOŘÁK, Pavel a Radek ŽEMLIČKA. Modelling of plasma potential waveform in capacitively coupled discharges. In Kapička, Kudrle, Souček, Skácelová, Hnilica, Zeman, Baroch, Prokopčáková, Pazourek. Potential and Applications of Surface Nanotreatment of Polymers and Glass - Book of Extended Abstracts. Brno: Masarykova univerzita, 2012, s. 41-43. ISBN 978-80-210-5979-5.

Základní údaje

Originální název

Modelling of plasma potential waveform in capacitively coupled discharges

Název česky

Počítání časového průběhu potenciálu plazmatu v kapacitně vázaných výbojích

Autoři

DVOŘÁK, Pavel a Radek ŽEMLIČKA

Vydání

Brno, Potential and Applications of Surface Nanotreatment of Polymers and Glass - Book of Extended Abstracts, od s. 41-43, 3 s. 2012

Nakladatel

Masarykova univerzita

---

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Stať ve sborníku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Česká republika

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Forma vydání

tištěná verze "print"

Označené pro přenos do RIV

Ano

Kód RIV

RIV/00216224:14310/12:00061339

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

ISBN

978-80-210-5979-5

Klíčová slova česky

kapacitně vázané výboje; potenciál plazmatu; vyšší harmonické frekvence

Klíčová slova anglicky

capacitively coupled discharges; plasma potential; higher harmonic frequencies

Štítky

AKR, rivok

---

Anotace

V originále

A model of nonlinear electric behaviour of low pressure capacitively coupled discharges is presented. Comparison of the model with an experiment is shown and problematics of discharge asymmetry is discussed. The model demonstrates that the assumption of sheath collapse during the RF period can not be used in accurate calculations. Eigenfrequency of plasma oscillations was studied and it was observed, that this frequency depends mainly on electron concentration and distance between electrodes, but discharge asymmetry and amplitude of discharge voltage influence the eigenfrequency as well.

Česky

Prezentace vytvářeného modelu elektrického chování kapacitně vázaných výbojů. Model obsahuje nelineární chování stěnových vrstev prostorového náboje u obou elektrod.

---

Návaznosti

CZ.1.05/2.1.00/03.0086, interní kód MU	Název: CEPLANT - Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, CEPLANT - Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy, 2.1 Regionální VaV centra
CZ.1.07/2.4.00/12.0061, interní kód MU	Název: Vzdělávací a kontaktní středisko pro průmyslové nanotechnologické úpravy povrchů (Akronym: NANOcontact - partnerské sítě) Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Vzdělávací a kontaktní středisko pro průmyslové nanotechnologické úpravy povrchů, 2.4 Partnerství a sítě
ED2.1.00/03.0086, projekt VaV	Název: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
MSM0021622411, záměr	Název: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek