VAŠINA, Petr, Tereza SCHMIDTOVÁ, Pavel SOUČEK a Vilma BURŠÍKOVÁ. Study of hybrid PVD-PECVD process and its application for metal/carbon film deposition. In E-MRS 2012 Spring Meeting. 2012.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Study of hybrid PVD-PECVD process and its application for metal/carbon film deposition
Autoři VAŠINA, Petr (203 Česká republika, garant, domácí), Tereza SCHMIDTOVÁ (203 Česká republika, domácí), Pavel SOUČEK (203 Česká republika, domácí) a Vilma BURŠÍKOVÁ (203 Česká republika, domácí).
Vydání E-MRS 2012 Spring Meeting, 2012.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Konferenční abstrakt
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Francie
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Kód RIV RIV/00216224:14310/12:00057674
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
Klíčová slova anglicky hybrid PVD-PECVD; magnetron sputtering; metal/carbon
Štítky AKR, rivok
Změnil Změnila: Ing. Andrea Mikešková, učo 137293. Změněno: 23. 4. 2013 09:34.
Anotace
Hybrid PVD-PECVD process of titanium sputtering in mixture of argon and acetylene combines aspects of both conventional techniques: sputtering of titanium target (PVD) and deposition from acetylene which acts as a source of carbon for polymerization (PECVD). This contribution reports and corelates both the properties of the deposited coating and the deposition process characteristics. nc-TiC/a-C:H coating with hardness and Young’s modulus over 40 GPa and 400 GPa respectively with adhesion in range HF0-HF1 on Ti coated HSS and WC were prepared. Hysteresis free and non-monotonous evolution of discharge voltage determines three characteristic zones of the process evolution with the acetylene supply. The evolution of discharge voltage was correlated with the evolution of the state of the target and OES. At zone I, for low acetylene supply, the discharge voltage and H line intensity increase and the initially pure Ti racetrack is getting covered by TiC. At zone II, for medium acetylene supply, the discharge voltage slightly decreases, H line intensity increases and the racetrack is covered mainly by TiC. At zone III, for high acetylene supply, discharge voltage sharply increases and H line intensity decreases and the racetrack is getting covered by C layer. Ti lines decrease in all three zones. The coating with the highest hardness was prepared at the conditions close to boundary between zone II and III.
Návaznosti
ED2.1.00/03.0086, projekt VaVNázev: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
GAP205/12/0407, projekt VaVNázev: Porozumění hybridnímu PVD-PECVD procesu s cílem řídit růst nanostrukturovaných kompozitních vrstev
Investor: Grantová agentura ČR, Porozumění hybridnímu PVD-PECVD procesu s cílem řídit růst nanostrukturovaných kompozitních vrstev
VytisknoutZobrazeno: 26. 4. 2024 10:56