2012
Higher harmonic frequencies in capacitive discharges and their using for monitoring of plasma processing
ŽEMLIČKA, Radek; Pavel DVOŘÁK a Vilma BURŠÍKOVÁZákladní údaje
Originální název
Higher harmonic frequencies in capacitive discharges and their using for monitoring of plasma processing
Autoři
Vydání
Brno, Potential and Application of Surface Nanotreatment of Polymers and Glass: Book of Extended Abstrakts 2012, od s. 124-125, 2 s. 2012
Nakladatel
Masaryk University
Další údaje
Jazyk
angličtina
Typ výsledku
Stať ve sborníku
Obor
10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele
Česká republika
Utajení
není předmětem státního či obchodního tajemství
Forma vydání
tištěná verze "print"
Označené pro přenos do RIV
Ano
Kód RIV
RIV/00216224:14310/12:00061370
Organizační jednotka
Přírodovědecká fakulta
ISBN
978-80-210-5979-5
Klíčová slova anglicky
higher harmonics; RF discharge; plasma processing
Štítky
Změněno: 2. 11. 2016 15:04, doc. Mgr. Pavel Dvořák, Ph.D.
Anotace
V originále
Waveforms of discharges voltage and current and their changes due to changes of plasma parameters were studied recently. Mainly the sensitive reaction of Fourier components of discharge voltage to presence of deposited or etched thin films showed up as an useful diagnostic method of plasma processing.
Návaznosti
| ED2.1.00/03.0086, projekt VaV |
|