D 2012

Feedback system to control reactive magnetron sputtering

KLEIN, Peter; Petr VAŠINA a Tereza SCHMIDTOVÁ

Základní údaje

Originální název

Feedback system to control reactive magnetron sputtering

Autoři

Vydání

Brno, Potential and Applications of Surface Nanothreatment of Polymers and Glass, od s. 61-62, 2 s. 2012

Nakladatel

Masaryk University

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Stať ve sborníku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Česká republika

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Forma vydání

tištěná verze "print"

Označené pro přenos do RIV

Ano

Kód RIV

RIV/00216224:14310/12:00057675

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

ISBN

978-80-210-5979-5

Klíčová slova česky

naprašovanie; magnetron; hysterézia

Klíčová slova anglicky

sputtering; magnetron; hysteresis

Štítky

Změněno: 5. 4. 2013 12:08, Mgr. Peter Klein, Ph.D.

Anotace

V originále

The process of reactive magnetron sputtering of titanium with oxygen inlet was studied. Thanks to feedback system Speedflo the process was able to stabilise itself in former unstable hysteresis region. The results of the experiments in hysteresis region let to improvements in theoretical model based on Berg’s model.

Návaznosti

ED2.1.00/03.0086, projekt VaV
Název: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
GAP205/12/0407, projekt VaV
Název: Porozumění hybridnímu PVD-PECVD procesu s cílem řídit růst nanostrukturovaných kompozitních vrstev
Investor: Grantová agentura ČR, Porozumění hybridnímu PVD-PECVD procesu s cílem řídit růst nanostrukturovaných kompozitních vrstev
GD104/09/H080, projekt VaV
Název: Plazmochemické procesy a jejich technologické aplikace
Investor: Grantová agentura ČR, Plazmochemické procesy a jejich technologické aplikace