Magnetron sputtering at CEPLANT project

VAŠINA, Petr. Magnetron sputtering at CEPLANT project. In Potential and Applications of Surface Nanotreatment of Polymers and Glass: Book of Extended Abstracts. 1. vyd. Brno: Masaryk University, 2012, s. 111-112. ISBN 978-80-210-5979-5.

Základní údaje

Originální název

Magnetron sputtering at CEPLANT project

Autoři

VAŠINA, Petr

Vydání

1. vyd. Brno, Potential and Applications of Surface Nanotreatment of Polymers and Glass: Book of Extended Abstracts, od s. 111-112, 2 s. 2012

Nakladatel

Masaryk University

---

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Stať ve sborníku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Česká republika

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Forma vydání

tištěná verze "print"

Označené pro přenos do RIV

Ano

Kód RIV

RIV/00216224:14310/12:00057725

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

ISBN

978-80-210-5979-5

Klíčová slova anglicky

Magnetron sputtering

Štítky

AKR, rivok

---

Anotace

V originále

Magnetron sputtering belongs to the most industrially attractive methods for thin film deposition. Magnetron cathodes can be produced several meters long which makes the method very suitable for large area deposition. We presents activity related to magnetron sputtering group performed within the CEPLANT project, research topics, current equipment as well as properties of the sputtering system which is being acquired as one of the core devices of the CEPLANT project.

---

Návaznosti

ED2.1.00/03.0086, projekt VaV	Název: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
GAP205/12/0407, projekt VaV	Název: Porozumění hybridnímu PVD-PECVD procesu s cílem řídit růst nanostrukturovaných kompozitních vrstev Investor: Grantová agentura ČR, Porozumění hybridnímu PVD-PECVD procesu s cílem řídit růst nanostrukturovaných kompozitních vrstev