Influence of hydrogen on behaviour of reactive magnetron sputtering

NEKVAPIL, Jakub; Petr VAŠINA a Tereza SCHMIDTOVÁ. Influence of hydrogen on behaviour of reactive magnetron sputtering. In Potential and Applications of Surface Nanotreatment of Polymers and Glass: Book of Extended Abstracts. 1. vyd. Brno: Masaryk University, 2012, s. 126-127. ISBN 978-80-210-5979-5.

Základní údaje

Originální název

Influence of hydrogen on behaviour of reactive magnetron sputtering

Autoři

NEKVAPIL, Jakub; Petr VAŠINA a Tereza SCHMIDTOVÁ

Vydání

1. vyd. Brno, Potential and Applications of Surface Nanotreatment of Polymers and Glass: Book of Extended Abstracts, od s. 126-127, 2 s. 2012

Nakladatel

Masaryk University

---

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Stať ve sborníku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Česká republika

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Forma vydání

tištěná verze "print"

Označené pro přenos do RIV

Ano

Kód RIV

RIV/00216224:14310/12:00057726

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

ISBN

978-80-210-5979-5

Klíčová slova anglicky

reactive magnetron sputtering; hydrogen

Štítky

AKR, rivok

---

Anotace

V originále

This work studies reactive magnetron sputtering in mixtures of the gases Ar, O2 and H2. The main part is formed by analyzes the hysteresis of the deposition process for the mixtures Ar+O2, Ar+H2 separately and comparison of the results with behaviour of the system for the Ar+O2+H2 mixture. Behaviour of the system is studied for the case of deposition titanium oxide layer.

---

Návaznosti

ED2.1.00/03.0086, projekt VaV	Název: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
GAP205/12/0407, projekt VaV	Název: Porozumění hybridnímu PVD-PECVD procesu s cílem řídit růst nanostrukturovaných kompozitních vrstev Investor: Grantová agentura ČR, Porozumění hybridnímu PVD-PECVD procesu s cílem řídit růst nanostrukturovaných kompozitních vrstev