Determination of metastable and ground state density by method of effective branching fractions in Ar, Ar-Ti plasma

DOSOUDILOVÁ, Lenka; Zdeněk NAVRÁTIL; David TRUNEC a Petr VAŠINA. Determination of metastable and ground state density by method of effective branching fractions in Ar, Ar-Ti plasma. In Potential and Applications of Surface Nanotreatment of Polymers and Glass: Book of Extended Abstracts. 1. vyd. Brno: Masaryk University, 2012, s. 39-40. ISBN 978-80-210-5979-5.

Základní údaje

Originální název

Determination of metastable and ground state density by method of effective branching fractions in Ar, Ar-Ti plasma

Název česky

Určení koncentrace metastabilních atomů a atomů v základní stavu pomocí metody větvících faktorů v argonovém a argon-titanovém plazmatu

Autoři

DOSOUDILOVÁ, Lenka; Zdeněk NAVRÁTIL; David TRUNEC a Petr VAŠINA

Vydání

1. vyd. Brno, Potential and Applications of Surface Nanotreatment of Polymers and Glass: Book of Extended Abstracts, od s. 39-40, 2 s. 2012

Nakladatel

Masaryk University

---

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Stať ve sborníku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Česká republika

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Forma vydání

tištěná verze "print"

Označené pro přenos do RIV

Ano

Kód RIV

RIV/00216224:14310/12:00057748

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

ISBN

978-80-210-5979-5

Klíčová slova anglicky

branching fraction; argon; titanium; metastables

Štítky

AKR, rivok

Příznaky

Mezinárodní význam

---

Anotace

V originále

An absorption method based on branching fractions was investigated in different types of low temperature plasma generated in pure argon and argon with titanium in order to determine metastable state densities of argon and ground state density of titanium.

Česky

Absorpční metoda větvících faktorů byla studována v různých typech nízkoteplotního plazmatu generovaného v čistém argonu a v argonu s titanem za účelem určení koncentrace metastabilních atomů argonu a atomů titanu v základním stavu.

---

Návaznosti

CZ.1.05/2.1.00/03.0086, interní kód MU	Název: CEPLANT - Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, CEPLANT - Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy, 2.1 Regionální VaV centra
GD104/09/H080, projekt VaV	Název: Plazmochemické procesy a jejich technologické aplikace Investor: Grantová agentura ČR, Plazmochemické procesy a jejich technologické aplikace