VORÁČ, Jan, Pavel DVOŘÁK, Vojtěch PROCHÁZKA, Joerg EHLBECK a Stephan REUTER. Measurement of hydroxyl radical (OH) concentration in argon RF plasma jet by laser-induced fluorescence. PLASMA SOURCES SCIENCE & TECHNOLOGY. BRISTOL: IOP PUBLISHING LTD, 2013, roč. 22, č. 2, s. 025016-25024. ISSN 0963-0252. Dostupné z: https://dx.doi.org/10.1088/0963-0252/22/2/025016.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Measurement of hydroxyl radical (OH) concentration in argon RF plasma jet by laser-induced fluorescence
Autoři VORÁČ, Jan (203 Česká republika, garant, domácí), Pavel DVOŘÁK (203 Česká republika, domácí), Vojtěch PROCHÁZKA (203 Česká republika, domácí), Joerg EHLBECK (276 Německo) a Stephan REUTER (276 Německo).
Vydání PLASMA SOURCES SCIENCE & TECHNOLOGY, BRISTOL, IOP PUBLISHING LTD, 2013, 0963-0252.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Článek v odborném periodiku
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Velká Británie a Severní Irsko
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
WWW URL
Impakt faktor Impact factor: 3.056
Kód RIV RIV/00216224:14310/13:00067996
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
Doi http://dx.doi.org/10.1088/0963-0252/22/2/025016
UT WoS 000317275400018
Klíčová slova anglicky LIF; laser induced fluorescence; hydroxyl radical; OH; concentration; atmospheric pressure; RF plasma jet
Štítky AKR, rivok
Změnil Změnil: Mgr. Jan Voráč, Ph.D., učo 175282. Změněno: 13. 3. 2018 10:46.
Anotace
The concentration of hydroxyl (OH) radicals in a plasma pencil, an atmospheric RF plasma jet ignited in argon, was measured by laser-induced fluorescence calibrated by Rayleigh scattering on ambient air. A suitable excitation scheme for this discharge was suggested based on laser excitation to the lowest vibrational level of the A 2Sigma+ state. Effects of spectral overlap between the laser and absorption line, fluorescence saturation, temporal evolution of fluorescence radiation, rotational energy transfer and rotational distribution on the diagnostic method were analysed. The maximum OH concentration was approximately 5E+20 m-3. The maximum was reached when the measurement point localized in the effluent of the plasma pencil was inside but close to the tip of the visible active discharge.
Návaznosti
CZ.1.05/2.1.00/03.0086, interní kód MUNázev: CEPLANT - Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, CEPLANT - Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy, 2.1 Regionální VaV centra
ED2.1.00/03.0086, projekt VaVNázev: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
VytisknoutZobrazeno: 25. 4. 2024 05:43