a 2013

Calculation of higher harmonic frequencies generated in capacitively coupled discharges

DVOŘÁK, Pavel

Základní údaje

Originální název

Calculation of higher harmonic frequencies generated in capacitively coupled discharges

Název česky

Počítání vyšších harmonických frekvencí generovaných v kapacitně vázaných výbojích

Autoři

Vydání

31st International Conference on Phenomena in Ionized Gases - conference proceedings, 2013

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Konferenční abstrakt

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Česká republika

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Označené pro přenos do RIV

Ano

Kód RIV

RIV/00216224:14310/13:00068905

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

Klíčová slova česky

plazma; kapacitně vázané výboje; vyšší harmonické frekvence; stěnová vrstva; elektrické vlastnosti

Klíčová slova anglicky

plasma; capacitively coupled discharges; higher harmonic frequencies; sheaths; electric characteristics

Příznaky

Mezinárodní význam, Recenzováno
Změněno: 2. 11. 2016 15:00, doc. Mgr. Pavel Dvořák, Ph.D.

Anotace

V originále

Capacitively coupled discharge was modeled as a series combination of two nonlinear sheaths, a bulk plasma and a RF generator. This equivalent circuit was used for calculation of electric characteristics of capacitively coupled discharges including the spontaneous generation of higher harmonic frequencies of discharge current and sheath voltages. The calculation was realized both for single- and for double-frequency discharges. Mutual influences of discharge asymmetry, higher harmonic frequencies and amplitude of discharge voltage were studied. Various effects of plasma resonances and coupling of higher harmonic frequencies were observed and behaviour of higher harmonic frequencies in collisional plasma at high pressure was predicted.

Česky

Výpočet vyšších harmonických frekvencí a časových průběhů elektrických veličin v kapacitně vázaném plazmatu.

Návaznosti

ED2.1.00/03.0086, projekt VaV
Název: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy